[發明專利]一種分析銨根離子濃度的方法在審
| 申請號: | 201810242208.2 | 申請日: | 2018-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN108627607A | 公開(公告)日: | 2018-10-09 |
| 發明(設計)人: | 宋健;周潔;姜舜 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | G01N30/96 | 分類號: | G01N30/96 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 201200 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 銨根離子 分析模型 待測溶液 分析 標準溶液 構建 測容 分段 污染 應用 | ||
本發明提供了一種分析銨根離子濃度的方法,應用于對待測溶液中的銨根離子進行分析;其中包括以下步驟:根據每個第一標準溶液中的銨根離子的濃度以及銨根離子的峰面積構建一第一分析模型;根據每個第二標準溶液中的銨根離子的濃度以及銨根離子的峰面積構建一第二分析模型;獲取待測容液中的銨根離子的峰面積,根據待測溶液的峰面積的范圍于第一分析模型和第二分析模型中選擇一對應的分析模型,通過選擇的分析模型分析獲取待測溶液中的銨根離子的濃度。其技術方案的有益效果在于,通過采取分段分析待測溶液銨根離子濃度的方法,克服了現有技術中,對待測溶液進行銨根離子分析操作復雜且容易帶來污染的問題。
技術領域
本發明涉及離子濃度測試的技術領域,尤其涉及一種分析銨根離子濃度 的方法。
背景技術
現有的衡量銨根離子的分析方法是通過離子色譜儀,通過配制一定濃度 的標準溶液,以建立一條外標曲線來進行定量分析。
例如,建立一外標直線通過外標直線分析待測溶液,在低濃度范圍內, 線性系數達到99.9%,銨根離子的回收率達到99%,因此在低濃度范圍內可 直接進行定量分析,但是在高濃度范圍內,外標直線的線性判定系數僅為 98.7%,而98.7%不符合行業內規定的大于99.5%的要求,其回收率較低,僅 為70%左右。另有通過建立外標曲線分析待測溶液,雖然在高濃度范圍內回 收率以及線性都滿足要求,但是在低濃度范圍線性只有98.2%,回收率僅為 50%。
現有檢測的方法通常采用建立外標直線,然后在低濃度直接對待測溶液 的銨根離子進行定量分析,而在高濃度范圍內對樣品進行稀釋,然后稀釋到 低濃度進行定量分析,但是這種操作復雜且溶液易帶來污染。
發明內容
針對現有技術中在不同濃度范圍內對待測溶液中的銨根離子分析存在的 上述問題,現提供一種旨在不同的濃度范圍內,通過分段建立兩種分析模型, 在獲得待測溶液的中的銨根離子的峰面積之后通過分析模型獲取待測溶液的 銨根離子的濃度的方法。
具體技術方案如下:
一種分析銨根離子濃度的方法,應用于對待測溶液中的銨根離子進行分 析;其中,提供一銨根離子濃度在第一濃度范圍的多個第一標準溶液,以及 一銨根離子濃度在第二濃度范圍的多個第二標準溶液,包括以下步驟:
步驟S1、對多個所述第一標準溶液中的銨根離子進行檢測,以獲取每個 所述第一標準溶液中的所述銨根離子的峰面積;
步驟S2、根據每個所述第一標準溶液中的所述銨根離子的濃度以及銨根 離子的峰面積構建一第一分析模型;
步驟S3、對多個所述第二標準溶液中的銨根離子進行檢測,以獲取每個 所述第二標準溶液中的所述銨根離子的峰面積;
步驟S4、根據每個所述第二標準溶液中的所述銨根離子的濃度以及銨根 離子的峰面積構建一第二分析模型;
步驟S5、獲取所述待測容液中的所述銨根離子的峰面積,根據所述待測 溶液的峰面積的范圍于所述第一分析模型和所述第二分析模型中選擇一對應 的分析模型,通過選擇的所述分析模型分析獲取所述待測溶液中的銨根離子 的濃度。
優選的,所述第二濃度范圍大于所述第一濃度范圍。
優選的,所述待測溶液為包含銨根離子的溶液。
優選的,所述第一標準溶液中所述銨根離子的所述第一濃度范圍在 0-50ppb。
優選的,所述第二標準溶液中所述銨根離子的所述第二濃度范圍在 50-500ppb。
優選的,提供一離子色譜儀,通過所述離子色譜儀檢測獲取所述第一標 準溶液中的所述銨根離子的濃度以及峰面積,和/或
通過所述離子色譜儀檢測獲取所述第二標準溶液中的所述銨根離子的濃 度以及峰面積。
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