[發明專利]一種分析銨根離子濃度的方法在審
| 申請號： | 201810242208.2 | 申請日： | 2018-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN108627607A | 公開（公告）日： | 2018-10-09 |
| 發明（設計）人： | 宋健;周潔;姜舜 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | G01N30/96 | 分類號： | G01N30/96 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人： | 俞滌炯 |
| 地址： | 201200 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 銨根離子 分析模型 待測溶液 分析 標準溶液 構建 測容 分段 污染 應用 | ||
1.一種分析銨根離子濃度的方法，應用于對待測溶液中的銨根離子進行分析；其特征在于，提供一銨根離子濃度在第一濃度范圍的多個第一標準溶液，以及一銨根離子濃度在第二濃度范圍的多個第二標準溶液，包括以下步驟：
步驟S1、對多個所述第一標準溶液中的銨根離子進行檢測，以獲取每個所述第一標準溶液中的所述銨根離子的峰面積；
步驟S2、根據每個所述第一標準溶液中的所述銨根離子的濃度以及銨根離子的峰面積構建一第一分析模型；
步驟S3、對多個所述第二標準溶液中的銨根離子進行檢測，以獲取每個所述第二標準溶液中的所述銨根離子的峰面積；
步驟S4、根據每個所述第二標準溶液中的所述銨根離子的濃度以及銨根離子的峰面積構建一第二分析模型；
步驟S5、獲取所述待測容液中的所述銨根離子的峰面積，根據所述待測溶液的峰面積的范圍于所述第一分析模型和所述第二分析模型中選擇一對應的分析模型，通過選擇的所述分析模型分析獲取所述待測溶液中的銨根離子的濃度。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二濃度范圍大于所述第一濃度范圍。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述待測溶液為包含銨根離子的溶液。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一標準溶液中所述銨根離子的所述第一濃度范圍在0-50ppb。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二標準溶液中所述銨根離子的所述第二濃度范圍在50-500ppb。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，提供一離子色譜儀，通過所述離子色譜儀檢測獲取所述第一標準溶液中的所述銨根離子的濃度以及峰面積，和/或
通過所述離子色譜儀檢測獲取所述第二標準溶液中的所述銨根離子的濃度以及峰面積。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一分析模型為關于所述銨根離子的濃度以及峰面積之間的一次方程式。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二分析模型為關于所述銨根離子的濃度以及峰面積之間的二次方程式。
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