[發明專利]一種二維精密運動平臺及其運動方法在審
| 申請號: | 201810241650.3 | 申請日: | 2018-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN108453676A | 公開(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發明(設計)人: | 高健;鐘永彬;張攬宇;張金迪;陳新;陳云;湯暉;賀云波 | 申請(專利權)人: | 廣東工業大學 |
| 主分類號: | B25H1/00 | 分類號: | B25H1/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 張春水;唐京橋 |
| 地址: | 510060 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 宏運動平臺 傳動結構 微運動 平臺基座 精密運動平臺 運動平臺 運動X軸 運動Y軸 二維 象限 投影 大空間區域 獨立控制 互相分離 設置空間 錯位 | ||
本發明公開了一種二維精密運動平臺,包括:平臺基座、宏運動平臺和微運動平臺;宏運動平臺包括宏運動平臺傳動結構,宏運動平臺傳動結構包括:宏運動X軸傳動結構和宏運動Y軸傳動結構;宏運動X軸傳動結構和宏運動Y軸傳動結構在平臺基座頂面的投影構成坐標系的一個象限,微運動平臺在平臺基座頂面的投影位于象限的區域內。本發明通過設置空間錯位的宏運動平臺和微運動平臺,宏運動平臺和微運動平臺互相分離且獨立控制,使得運動平臺可以在較大空間區域內運動的同時滿足高精度的要求,解決了現有運動平臺因宏微運動結構的相互干擾導致運動精度下降的技術問題。
技術領域
本發明涉及精密運動平臺技術領域,尤其涉及一種二維精密運動平臺及其運動方法。
背景技術
隨著科技的發展和微電子產品的普及,人們對微電子產品的要求也越來越高,使得生產商對微電子產品的加工難度日益劇增,微電子產品的精密加工,取決于運動平臺的高精度運動和高加速度運動的二者搭配。高精度運動和高加速度運動可以可采用宏微運動結合的方式實現,宏運動實現大行程與高加速度,同時宏運動能達到微米級的精度,微運動在宏運動微米級運動基礎上對宏運動的運動誤差進行更高精度的補償,實現納米級精度,最終整個平臺可以實現納米級高精度運動。
現有宏微運動結合的運動平臺,涉及電、磁、機構、功能材料等多物理場耦合建模,運動性能受到多場多因素約束與影響,是多學科融合的科學難題;宏微復合運動工況下基于功能材料的微納米精度生成的機理,尤其是材料特性、結構尺寸與組成成分對非線性遲滯、蠕變與漂移效應的物理本質與影響規律,相關理論的欠缺一直限制著運動平臺的運動精確性。
發明內容
本發明提供了一種二維精密運動平臺及其運動方法,解決了現有運動平臺因宏微運動結構的相互干擾導致運動精度下降的技術問題。
本發明提供了一種二維精密運動平臺,包括:平臺基座、宏運動平臺和微運動平臺;
所述宏運動平臺包括宏運動平臺傳動結構,所述宏運動平臺傳動結構包括:宏運動X軸傳動結構和宏運動Y軸傳動結構;
所述宏運動X軸傳動結構和所述宏運動Y軸傳動結構在所述平臺基座頂面的投影構成坐標系的一個象限,所述微運動平臺在所述平臺基座頂面的投影位于所述象限的區域內。
作為優選,所述宏運動Y軸傳動結構包括Y軸電機,所述宏運動X軸傳動結構包括X軸電機;
所述Y軸電機定子安裝于所述平臺基座頂面上,所述X軸電機定子和所述Y軸電機動子固定連接;
所述微運動平臺安裝于所述平臺基座頂面上。
作為優選,所述平臺基座頂面和所述Y軸電機定子之間設有第一凸起。
作為優選,所述Y軸電機定子位于所述平臺基座頂面開設的第一凹槽內。
作為優選,所述平臺基座頂面和所述微運動平臺之間設有第二凸起。
作為優選,所述微運動平臺位于所述平臺基座頂面開設的第二凹槽內。
作為優選,所述X軸電機定子和所述Y軸電機動子之間設有支撐件,所述支撐件為柱狀結構或條狀結構,所述X軸電機定子和所述Y軸電機動子均與所述支撐件固定連接。
作為優選,所述微運動平臺包括微運動平臺主體、驅動件、彈性組件和外框;
所述外框固定于所述平臺基座頂面上;
所述微運動平臺主體設置于所述外框中,所述微運動平臺主體側面通過所述彈性組件和所述外框內壁連接;
所述驅動件與所述微運動平臺主體連接,并與所述彈性組件配合使得所述微運動平臺主體移動。
作為優選,所述微運動平臺主體為長方體;
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