[發明專利]一種曝光機機臺異物檢測和去除裝置及曝光機

有效

• 申請號: 201810238540.1
• 申請日: 2018-03-22
• 公開（公告）號: CN108267936B
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 唐滔;隆清德;陳軼;楊澤榮;吳催豪;鄭書書
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01N21/88
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張潤

本發明提供了曝光機機臺異物檢測和去除裝置以及曝光機。機臺異物檢測和去除裝置包括：異物檢除單元，其包括：異物檢知組件，用于檢測曝光機機臺上是否存在異物顆粒及確定其位置；研磨組件，用于研磨去除機臺上附著的異物顆粒；真空吸塵組件，用于吸取研磨過程中產生的細小異物和機臺上的細小異物；導軌組件，與異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件可拆卸地連接，用于攜帶三者平行于曝光機機臺平面進行水平定位移動；升降組件，用于攜帶三者垂直于曝光機機臺平面進行豎直定位移動。本發明既可在生產過程中發現mura后對顆粒異物自動進行快速定位，徹底清除；亦可在生產前進行全面檢測和異物去除，預防機臺本身異物導致的產品不良。

技術領域

本發明涉及液晶顯示設備技術領域，更確切地說，涉及一種曝光機機臺異物檢測和去除裝置及曝光機。

背景技術

在液晶顯示設備制造的曝光制程中，曝光機機臺的光潔與否對產品質量有著直接影響。當曝光機機臺上有異物顆粒存在時，會影響玻璃基板和曝光機機臺的貼合，如果玻璃基板被在曝光機機臺上形成的頑固顆粒狀異物輕微頂起，經過曝光機后續的曝光，在宏觀檢測時，會出現異常，在顯微檢測時，在對應位置可檢測到近圓圈形狀的斑痕(本領域亦稱之為mura，源自日語，むら，斑，mura為其發音拼寫)。由于本領域技術人員的習慣是直接以英文稱之為mura(有時也用pin mura)，因此，為了便于本領域技術人員閱讀和理解，本公開中亦直接使用術語“mura”來表示曝光機中產生的這種斑痕。

在現有技術中，為了解決mura問題，通常采用人工的方式。在發現mura現象后，把掩膜板(mask)從曝光機上拆下來，由作業人員進入曝光機，用肉眼借助手電筒等局部光源在mura產生的位置進行搜索異物和清除工作。這一過程耗時較長，至少需要一小時以上，且曝光機中人員的進入有引入新的異物造成二次污染的可能，也會增加掩膜板損壞的概率。并且，對于異物是否清除干凈一是靠肉眼判斷，顯然肉眼的效果并不理想；二是通過加測微距檢測相應位置的圓圈Mura是否消失來判斷，這個過程則相對繁瑣。并且一旦清理過后再次生產時，如果mura仍舊存在(例如因為沒清理干凈或者清理過程帶來的二次污染)，需要二次拆機重新清理，嚴重影響生產效率。以現有技術的平均產能來說，一臺曝光機一小時大約可以曝光90張玻璃基板，人工檢測和清除異物顆粒的產能損失非常大。此外，由于以人工方式對曝光機機臺進行逐寸的異物檢測效率極低，實現困難，此方法只能在mura產生之后進行被動的清除，無法在開始生產前預防mura的產生。

發明內容

本發明旨在至少在一定程度上解決上述相關技術中的技術問題之一。以較高的效率對異物顆粒實現自動檢測和清除，消除和預防曝光機中的mura問題。

為了達到上述目的，根據本發明第一方面的實施例提出了一種曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其包括異物檢除單元，導軌組件和升降組件，其中，所述異物檢除單元包括：異物檢知組件，用于檢測曝光機機臺上是否存在異物顆粒以及確定異物顆粒的位置；研磨組件，用于研磨去除曝光機機臺上附著的異物顆粒；真空吸塵組件，用于吸取所述研磨組件研磨過程中產生的細小異物和曝光機機臺上的細小異物；所述導軌組件與所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件可拆卸地連接，用于攜帶所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件平行于曝光機機臺平面進行水平定位移動；所述升降組件與所述導軌組件連接，用于攜帶所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件垂直于曝光機機臺平面進行豎直定位移動。

在一些實施例中，所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件一體設置，同步位移。

在一些實施例中，所述異物檢除單元還包括：顯微檢測組件，用于對曝光機機臺進行局部顯微檢測，確認是否有異物顆粒存在。

在一些實施例中，所述顯微檢測組件和異物檢知組件、研磨組件以及真空吸塵組件一體設置，同步位移。