[發明專利]一種曝光機機臺異物檢測和去除裝置及曝光機

有效

• 申請號: 201810238540.1
• 申請日: 2018-03-22
• 公開（公告）號: CN108267936B
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 唐滔;隆清德;陳軼;楊澤榮;吳催豪;鄭書書
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01N21/88
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張潤

1.一種曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，包括異物檢除單元，導軌組件和升降組件，其中，

所述異物檢除單元包括：

異物檢知組件，用于檢測曝光機機臺上是否存在異物顆粒以及確定異物顆粒的位置，異物顆粒粘附在曝光機機臺的臺面上；

研磨組件，用于研磨去除曝光機機臺上附著的異物顆粒；

真空吸塵組件，用于吸取所述研磨組件研磨過程中產生的細小異物和曝光機機臺上的細小異物，所述真空吸塵組件與所述研磨組件鄰接設置，在所述研磨組件研磨的同時，所述真空吸塵組件工作；

所述導軌組件與所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件可拆卸地連接，用于攜帶所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件平行于曝光機機臺平面進行水平定位移動；

所述升降組件與所述導軌組件連接，用于攜帶所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件垂直于曝光機機臺平面進行豎直定位移動。

2.根據權利要求1所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述異物檢知組件，研磨組件和真空吸塵組件一體設置，同步位移。

3.根據權利要求1所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述異物檢除單元還包括：

顯微檢測組件，用于對曝光機機臺進行局部顯微檢測，確認是否有異物顆粒存在。

4.根據權利要求3所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述顯微檢測組件和異物檢知組件、研磨組件以及真空吸塵組件一體設置，同步位移。

5.根據權利要求1所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述導軌組件包括第一導軌和第二導軌，所述第一導軌用于攜帶所述第二導軌和升降組件沿曝光機機臺定位移動；第二導軌與所述異物檢除單元可拆卸地連接，并供所述異物檢除單元沿導軌方向定位移動；第一導軌和第二導軌通過所述升降組件連接。

6.根據權利要求5所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述第一導軌為磁懸浮式導軌，第一導軌與曝光機臺為非接觸式連接。

7.根據權利要求6所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述第一導軌包括：

底座，平行于曝光機機臺的邊緣設置，為所述第一導軌提供整體支撐；

懸浮軌道，包括磁導性材料，用于在電磁場作用下與底座非接觸式連接，并沿底座方向移動；

磁懸浮電磁機，用于提供懸浮導軌所需的電磁場；

導引電磁機，用于驅動懸浮導軌沿底座移動。

8.根據權利要求1所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述導軌組件為接觸式導軌。

9.根據權利要求1所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述研磨組件包括：

研磨頭，用于研磨異物顆粒；

傳感器，位于研磨頭的兩側，用于檢測異物顆粒的尺寸，以確定研磨頭工作高度。

10.根據權利要求9所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置，其特征在于，所述研磨頭包括帶狀的研磨帶，通過研磨帶的滾動以平面接觸方式研磨異物顆粒。

11.一種曝光機，其特征在于，包括如權利要求1-10中任意一項所述的曝光機機臺異物檢測和去除裝置。