[發明專利]一種羥基磷灰石-氮化碳復合粒子及其原位復合工藝有效
| 申請號： | 201810233051.7 | 申請日： | 2018-03-21 |
| 公開（公告）號： | CN108324949B | 公開（公告）日： | 2021-04-13 |
| 發明（設計）人： | 左桂福;郭趙梁;劉珊珊 | 申請（專利權）人： | 華北理工大學 |
| 主分類號： | A61K47/02 | 分類號： | A61K47/02;A61K47/69;A61K49/00;B82Y5/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 063210 河北*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 羥基 磷灰石 氮化 復合 粒子 及其 原位 工藝 | ||
【權利要求書】：
1.一種羥基磷灰石/氮化碳熒光納米復合粒子的原位復合方法，其特征是使氮化碳的前驅體材料與羥基磷灰石的制備原料在液體條件下實現分子級混合，通過燒結的方式制備納米羥基磷灰石/氮化碳熒光復合粒子。
2.根據權利要求1所述的羥基磷灰石/氮化碳熒光納米復合粒子的原位復合方法，包括如下步驟：
(1)配制50份硝酸鈣水溶液，將0.1-10份氮化碳前驅體加入到硝酸鈣水溶液中，攪拌使其溶解并混合均勻；
(2)配制30份的磷酸氫二銨水溶液，將其緩慢加入到上述溶液中，攪拌0.5-5小時，去除混合溶液中的水分；
(3)將獲得的復合物進行燒結并將燒結產物研磨成粉末。
3.如權利要求2所述的方法，其中，所述氮化碳前驅體為單氰胺、雙氰胺、三聚氰胺、尿素中的一種或多種。
4.如權利要求2所述的方法，其中，所述硝酸鈣和磷酸氫二銨的濃度為0.1-10M。
5.如權利要求2所述的方法，其中，所述混合溶液水分去除方式包括攪拌下加熱蒸發或者冷凍干燥。
6.如權利要求2所述的方法，其中，所述燒結參數為：升溫速度為1-10℃/min，在350℃-600℃條件下保持1-4個小時。
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