[發(fā)明專利]一種被動懸浮的雙驅(qū)低負(fù)載天車有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810230992.5 | 申請日: | 2018-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN108483254B | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙勇;馬麗梅;劉強(qiáng);隋金玲;張淞銘;吳立志;單希林;吳波;韓明忠 | 申請(專利權(quán))人: | 北京石油化工學(xué)院 |
| 主分類號: | B66C9/14 | 分類號: | B66C9/14;B66C7/08;F16C32/04 |
| 代理公司: | 北京凱特來知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11260 | 代理人: | 鄭立明;趙鎮(zhèn)勇 |
| 地址: | 102600 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 低負(fù)載 天車 懸浮 氣隙磁密 繞組線圈 定位塊 導(dǎo)磁 磁場 繞組線圈結(jié)構(gòu) 磁通利用率 定位精度高 定子永磁體 動子永磁體 擋板 導(dǎo)磁材料 均勻性好 上導(dǎo)磁板 有效長度 耦合 潔凈度 均勻性 驅(qū)動力 體積小 懸浮磁 移動架 永磁體 磁通 導(dǎo)軌 等高 動子 隔磁 漏磁 氣隙 運(yùn)輸 半導(dǎo)體 分組 驅(qū)動 應(yīng)用 | ||
1.一種被動懸浮的雙驅(qū)低負(fù)載天車,主要由定子部分和動子部分組成,其特征在于,所述定子部分包括:框架(1)、上導(dǎo)磁板(2)、定子左上永磁體(3A)、定子右上永磁體(3B)、上隔磁定位塊(4)、左L型導(dǎo)磁板(5A)、右L型導(dǎo)磁板(5B)、左下導(dǎo)磁定位塊(6A)、右下導(dǎo)磁定位塊(6B)、定子左永磁體(7A)、定子右永磁體(7B)、定子左下永磁體(8A)、定子右下永磁體(8B)、左導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9A)、右導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9B)、左導(dǎo)軌左永磁體(10A)、左導(dǎo)軌上永磁體(10B)、左導(dǎo)軌右永磁體(10C)、左導(dǎo)軌下永磁體(10D)、右導(dǎo)軌左永磁體(11A)、右導(dǎo)軌上永磁體(11B)、右導(dǎo)軌右永磁體(11C)、右導(dǎo)軌下永磁體(11D)、左方形繞組線圈(12A)和右方形繞組線圈(12B);
所述動子部分包括:移動架(13)、動子左上永磁體(14A)、動子右上永磁體(14B)、動子左下永磁體(15A)、動子右下永磁體(15B)、動子左永磁體(16A)、動子右永磁體(16B)、中心永磁體(17)、擋板(18);
所述框架(1)通過頂端兩側(cè)的螺栓固定安裝在天花板上,上導(dǎo)磁板(2)位于框架(1)內(nèi)腔上方卡槽的上端位置,定子左上永磁體(3A)和定子右上永磁體(3B)分別位于上導(dǎo)磁板(2)的下端左側(cè)和下端右側(cè)位置,上隔磁定位塊(4)通過螺栓固定安裝在上導(dǎo)磁板(2)下端中心位置,左L型導(dǎo)磁板(5A)位于框架(1)內(nèi)腔的左下角端L型卡槽內(nèi),右L型導(dǎo)磁板(5B)位于框架(1)內(nèi)腔的右下角端L型卡槽內(nèi),左下導(dǎo)磁定位塊(6A)通過螺栓固定安裝在左L型導(dǎo)磁板(5A)內(nèi)側(cè)左下角端位置,右下導(dǎo)磁定位塊(6B)通過螺栓固定安裝在右L型導(dǎo)磁板(5B)內(nèi)側(cè)右下角端位置,定子左永磁體(7A)位于左下導(dǎo)磁定位塊(6A)上端,定子右永磁體(7B)位于右下導(dǎo)磁定位塊(6B)上端,定子左下永磁體(8A)位于左下導(dǎo)磁定位塊(6A)右端,定子右下永磁體(8B)位于右下導(dǎo)磁定位塊(6B)左端;
所述左導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9A)位于框架(1)左側(cè)方形腔內(nèi)部中心位置,右導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9B)位于框架(1)右側(cè)方形腔內(nèi)部中心位置,左導(dǎo)軌左永磁體(10A)、左導(dǎo)軌上永磁體(10B)、左導(dǎo)軌右永磁體(10C)和左導(dǎo)軌下永磁體(10D)通過環(huán)氧樹脂膠分別固定在左導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9A)的左端、上端、右端和下端,右導(dǎo)軌左永磁體(11A)、右導(dǎo)軌上永磁體(11B)、右導(dǎo)軌右永磁體(11C)和右導(dǎo)軌下永磁體(11D)通過環(huán)氧樹脂膠分別固定在右導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9B)的左端、上端、右端和下端,左方形繞組線圈(12A)纏繞在左導(dǎo)軌左永磁體(10A)、左導(dǎo)軌上永磁體(10B)、左導(dǎo)軌右永磁體(10C)和左導(dǎo)軌下永磁體(10D)上,并通過環(huán)氧樹脂膠與框架(1)左側(cè)方形腔內(nèi)壁相粘結(jié),右方形繞組線圈(12B)纏繞在右導(dǎo)軌左永磁體(11A)、右導(dǎo)軌上永磁體(11B)、右導(dǎo)軌右永磁體(11C)和右導(dǎo)軌下永磁體(11D)上,并通過環(huán)氧樹脂膠與框架(1)右側(cè)方形腔內(nèi)壁相粘結(jié);
所述移動架(13)位于框架(1)內(nèi)腔的工字型氣隙中心位置,動子左上永磁體(14A)和動子右上永磁體(14B)通過環(huán)氧樹脂膠分別固定在移動架(13)上端左側(cè)卡槽和上端右側(cè)卡槽內(nèi),動子左下永磁體(15A)和動子右下永磁體(15B)通過環(huán)氧樹脂膠分別固定在移動架(13)下端左側(cè)卡槽和下端右側(cè)卡槽內(nèi),動子左永磁體(16A)和動子右永磁體(16B)通過環(huán)氧樹脂膠分別固定在移動架(13)左端卡槽和右端卡槽內(nèi),中心永磁體(17)通過環(huán)氧樹脂膠固定在移動架(13)中心位置卡槽內(nèi),擋板(18)通過環(huán)氧樹脂膠固定在移動架(13)中心位置卡槽內(nèi),且位于中心永磁體(17)外側(cè)位置;
所述移動架(13)與框架(1)、定子左上永磁體(3A)、定子右上永磁體(3B)、上隔磁定位塊(4)、左下導(dǎo)磁定位塊(6A)、右下導(dǎo)磁定位塊(6B)、定子左永磁體(7A)、定子右永磁體(7B)、定子左下永磁體(8A)和定子右下永磁體(8B)之間形成氣隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被動懸浮的雙驅(qū)低負(fù)載天車,其特征在于,所述上導(dǎo)磁板(2)、左L型導(dǎo)磁板(5A)、右L型導(dǎo)磁板(5B)、左下導(dǎo)磁定位塊(6A)、右下導(dǎo)磁定位塊(6B)、左導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9A)和右導(dǎo)磁導(dǎo)軌(9B)均為1J50或1J22材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被動懸浮的雙驅(qū)低負(fù)載天車,其特征在于,所述框架(1)、上隔磁定位塊(4)、移動架(13)和擋板(18)均為硬鋁合金2A12或超硬鋁合金7A09材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被動懸浮的雙驅(qū)低負(fù)載天車,其特征在于,所述的定子左上永磁體(3A)、定子右上永磁體(3B)、定子左下永磁體(8A)、定子右下永磁體(8B)、左導(dǎo)軌上永磁體(10B)、左導(dǎo)軌下永磁體(10D)、右導(dǎo)軌上永磁體(11B)、右導(dǎo)軌下永磁體(11D)、動子左上永磁體(14A)、動子右上永磁體(14B)、動子左下永磁體(15A)和動子右下永磁體(15B)均為縱向充磁,定子左永磁體(7A)、定子右永磁體(7B)、左導(dǎo)軌左永磁體(10A)、左導(dǎo)軌右永磁體(10C)、右導(dǎo)軌左永磁體(11A)、右導(dǎo)軌右永磁體(11C)和中心永磁體(17)均為水平方向充磁,定子左上永磁體(3A)、定子右上永磁體(3B)、定子左永磁體(7A)、定子右永磁體(7B)、定子左下永磁體(8A)、定子右下永磁體(8B)、左導(dǎo)軌左永磁體(10A)、左導(dǎo)軌上永磁體(10B)、左導(dǎo)軌右永磁體(10C)、左導(dǎo)軌下永磁體(10D)、右導(dǎo)軌左永磁體(11A)、右導(dǎo)軌上永磁體(11B)、右導(dǎo)軌右永磁體(11C)、右導(dǎo)軌下永磁體(11D)、動子左上永磁體(14A)、動子右上永磁體(14B)、動子左下永磁體(15A)、動子右下永磁體(15B)、動子左永磁體(16A)、動子右永磁體(16B)、中心永磁體(17)的充磁方向依次為:上N下S、上S下N、左S右N、左S右N、上N下S、上S下N、左N右S、上N下S、左S右N、上S下N、左S右N、上S下N、左N右S、上N下S、上N下S、上S下N、上S下N、上N下S、左N右S、左N右S、左S右N或上S下N、上N下S、左N右S、左N右S、上S下N、上N下S、左S右N、上S下N、左N右S、上N下S、左N右S、上N下S、左S右N、上S下N、上S下N、上N下S、上N下S、上S下N、左S右N、左S右N、左N右S。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京石油化工學(xué)院,未經(jīng)北京石油化工學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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