[發(fā)明專利]水循環(huán)裝置及研磨裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810198225.0 | 申請日: | 2018-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN108188921B | 公開(公告)日: | 2020-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王仲康;王家鵬;趙歲花;張文斌;趙婉云;李遠航;孫莉莉 | 申請(專利權(quán))人: | 北京半導(dǎo)體專用設(shè)備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所) |
| 主分類號: | B24B37/10 | 分類號: | B24B37/10;B24B37/34;B24B55/03 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 黃彩榮 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 水循環(huán) 裝置 研磨 | ||
1.一種水循環(huán)裝置,其特征在于,包括中心軸(1)和冷卻盤(2),所述中心軸(1)的內(nèi)部沿其軸向設(shè)有通孔,所述冷卻盤(2)可拆卸式固設(shè)于所述中心軸(1)的頂端,且與所述中心軸(1)共軸設(shè)置,所述冷卻盤(2)上設(shè)有第二進水孔(21)和第二出水孔(22),所述第二進水孔(21)和所述第二出水孔(22)均貫通所述冷卻盤(2)的頂面和底面;
所述中心軸(1)的底端滑動連接有調(diào)節(jié)塊(3),所述調(diào)節(jié)塊(3)能夠沿所述中心軸(1)的軸向滑動調(diào)節(jié),所述調(diào)節(jié)塊(3)上設(shè)有第一進水孔(31)和第一出水孔(32),所述中心軸(1)的通孔內(nèi)穿設(shè)有進水管和出水管,所述進水管連通于所述第一進水孔(31)和所述第二進水孔(21)之間,所述出水管連通于所述第一出水孔(32)和所述第二出水孔(22)之間;
所述水循環(huán)裝置還包括鎖緊裝置,所述中心軸(1)的底端端部沿其軸向固設(shè)有導(dǎo)向柱(11),所述調(diào)節(jié)塊(3)上設(shè)有導(dǎo)向孔(33),所述導(dǎo)向柱(11)滑動插接于所述導(dǎo)向孔(33)內(nèi),所述鎖緊裝置用于對所述導(dǎo)向柱(11)插入所述導(dǎo)向孔(33)內(nèi)的深度進行鎖緊固定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水循環(huán)裝置,其特征在于,所述導(dǎo)向柱(11)為三個,三個所述導(dǎo)向柱(11)沿所述中心軸(1)的周向均勻排布,所述導(dǎo)向孔(33)與所述導(dǎo)向柱(11)相應(yīng)也為三個。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水循環(huán)裝置,其特征在于,所述調(diào)節(jié)塊(3)的底部固接有旋轉(zhuǎn)接頭(4),所述旋轉(zhuǎn)接頭(4)包括連接部和轉(zhuǎn)動部,所述連接部固接于所述調(diào)節(jié)塊(3)的底部,所述轉(zhuǎn)動部樞接于所述連接部的底部,所述轉(zhuǎn)動部上設(shè)有第三進水孔和第三出水孔,所述第三進水孔與所述第一進水孔(31)連通,所述第三出水孔與所述第一出水孔(32)連通。
4.一種研磨裝置,其特征在于,包括研磨平臺(5)、驅(qū)動裝置(6)和權(quán)利要求1-3中任一項所述的水循環(huán)裝置,所述水循環(huán)裝置冷卻盤(2)的頂面上設(shè)有冷卻水槽(23),所述冷卻水槽(23)的一端與所述第二進水孔(21)連通,另一端與所述第二出水孔(22)連通,所述研磨平臺(5)可拆卸式固設(shè)于所述冷卻盤(2)的頂部,所述冷卻水槽(23)內(nèi)的冷卻水對所述研磨平臺(5)進行冷卻降溫;所述驅(qū)動裝置(6)用于驅(qū)動所述中心軸(1)沿其軸心自轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨裝置,其特征在于,所述冷卻水槽(23)包括阿基米德螺線槽,所述阿基米德螺線槽的進口端與所述冷卻盤(2)上的第二進水孔(21)連通,出口端與所述冷卻盤(2)上的第二出水孔(22)連通,且所述第二進水孔(21)位于所述冷卻盤(2)的軸線處,所述第二出水孔(22)位于所述冷卻盤(2)靠近邊緣的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨裝置,其特征在于,所述阿基米德螺線槽包括第一螺線槽(231)和第二螺線槽(232),所述第一螺線槽(231)的進口端與所述冷卻盤(2)上的第二進水孔(21)通過直線槽(233)連通,所述第一螺線槽(231)與所述第二進水孔(21)之間形成第一環(huán)形安裝區(qū)(24);所述第二螺線槽(232)的出口端與所述冷卻盤(2)上的第二出水孔(22)連通,所述第一螺線槽(231)的出口端與所述第二螺線槽(232)的進口端也通過直線槽(233)連通,所述第一螺線槽(231)與所述第二螺線槽(232)之間形成第二環(huán)形安裝區(qū)(25)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨裝置,其特征在于,所述冷卻盤(2)的底部設(shè)有凹槽(26),所述凹槽(26)設(shè)于所述第二進水孔(21)和所述第二出水孔(22)之間,所述第二出水孔(22)和所述第二進水孔(21)之間的一段所述出水管鑲嵌于所述凹槽(26)內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨裝置,其特征在于,所述冷卻盤(2)與所述研磨平臺(5)之間通過螺紋緊固件可拆卸式固接,所述冷卻盤(2)和所述研磨平臺(5)上設(shè)有相對應(yīng)的螺紋孔,所述冷卻盤(2)或所述研磨平臺(5)上還設(shè)有環(huán)形的密封槽,所述密封槽與所述螺紋孔同心設(shè)置,且所述密封槽內(nèi)鑲嵌有密封件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的研磨裝置,其特征在于,所述冷卻盤(2)外罩設(shè)有筒狀的防水罩(7)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京半導(dǎo)體專用設(shè)備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所),未經(jīng)北京半導(dǎo)體專用設(shè)備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810198225.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





