[發明專利]磁盤用基板有效
| 申請號： | 201810192927.8 | 申請日： | 2013-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN108428460B | 公開（公告）日： | 2020-02-21 |
| 發明（設計）人： | 板谷旬展;越阪部基延 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/73 | 分類號： | G11B5/73 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 李輝;朱麗娟 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁盤 用基板 | ||
1.一種磁盤用基板，其具有一對主表面，所述磁盤用基板的特征在于，
主表面中的波段為100μm～500μm的粗糙度即微觀波紋度為0.5nm以下，
主表面上沒有圓周方向的紋理，
關于主表面的表面，10nm～50nm的波長成分的算術平均粗糙度Ra在0.15nm以下。
2.一種磁盤用基板，其具有一對主表面，所述磁盤用基板的特征在于，
主表面中的波段為100μm～500μm的粗糙度即微觀波紋度為0.5nm以下，
主表面上沒有圓周方向的紋理，
關于主表面的表面，10nm～30nm的波長成分的算術平均粗糙度Ra在0.10nm以下。
3.一種磁盤用基板，其具有一對主表面，所述磁盤用基板的特征在于，
主表面中的波段為100μm～500μm的粗糙度即微觀波紋度為0.5nm以下，
主表面上沒有圓周方向的紋理，
關于主表面的表面，10nm～20nm的波長成分的算術平均粗糙度Ra在0.10nm以下。
4.根據權利要求1～3中的任意一項所述的磁盤用基板，其特征在于，
關于主表面的表面，在將1μm×1μm的區域內劃分成512×512的劃分區域，采用原子力顯微鏡進行了測定時的算術平均粗糙度Ra在0.15nm以下。
5.根據權利要求1～3中的任意一項所述的磁盤用基板，其特征在于，
所述磁盤用基板用于能源輔助磁記錄用磁盤。
6.根據權利要求1～3中的任意一項所述的磁盤用基板，其特征在于，
在以10nm的間隔取得了主表面的斜率的采樣的情況下，斜率的平方的平均值為0.0025以下，并且斜率的平方的值為0.004以上的頻次在15％以下。
7.根據權利要求1～3中的任意一項所述的磁盤用基板，其特征在于，
所述磁盤用基板用于2000kbpi以上的線記錄密度的磁盤。
8.根據權利要求1～3中的任意一項所述的磁盤用基板，其特征在于，
在所述磁盤用基板的表面至少形成有磁記錄層。
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