[發(fā)明專(zhuān)利]真空閥系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810190352.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108571600B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·霍弗;C·博姆;A·施恩莫塞爾 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | VAT控股公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | F16K3/06 | 分類(lèi)號(hào): | F16K3/06;F16K3/02;F16K31/04;F16K37/00;F16K51/02 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 呂俊剛;楊薇 |
| 地址: | 瑞士*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 系統(tǒng) | ||
本申請(qǐng)涉及真空閥系統(tǒng),該真空閥系統(tǒng)包括真空閥,該真空閥具有閥座和閥封閉件,該閥封閉件用于按大致氣密方式關(guān)閉閥開(kāi)口。設(shè)置有至少兩個(gè)密封面,該至少兩個(gè)密封面中的第一密封面由閥座提供且繞閥開(kāi)口延伸,且第二密封面由閥封閉件提供且與第一密封面相對(duì)地形成。還設(shè)置有聯(lián)接至閥封閉件的驅(qū)動(dòng)單元,該驅(qū)動(dòng)單元被設(shè)計(jì)為使得閥封閉件可以按限定的方式進(jìn)行改變和調(diào)節(jié),以提供相應(yīng)閥打開(kāi)狀態(tài),且可以從打開(kāi)位置移動(dòng)到關(guān)閉位置并返回,在打開(kāi)位置,閥封閉件至少部分地釋放閥開(kāi)口,在關(guān)閉位置,第二密封面沿第一密封面的方向壓緊并且閥開(kāi)口按大致氣密方式關(guān)閉。該真空閥系統(tǒng)具有光學(xué)傳感器單元,該光學(xué)傳感器單元被設(shè)計(jì)成檢測(cè)光學(xué)測(cè)量信號(hào),且按這樣的方式布置,并且所述光學(xué)傳感器單元的光學(xué)檢測(cè)軸取向?yàn)榭梢詸z測(cè)關(guān)于密封面中的一個(gè)的至少一部分的測(cè)量信號(hào),該測(cè)量信號(hào)可以在閥封閉件的測(cè)試位置生成。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及由真空閥和光學(xué)傳感器單元形成的系統(tǒng)。
背景技術(shù)
用于控制體積流或質(zhì)量流的真空閥以及用于大致氣密封閉引導(dǎo)通過(guò)形成在閥殼中的開(kāi)口的流徑的真空閥在來(lái)自現(xiàn)有技術(shù)的不同實(shí)施方式中通常是已知的,并且被尤其用于IC、半導(dǎo)體或襯底制造領(lǐng)域中的真空室系統(tǒng),其必須在受保護(hù)的氣氛中進(jìn)行,在可能的情況下不存在污染微粒。這種真空室系統(tǒng)尤其包括用于容納待加工或生產(chǎn)的半導(dǎo)體元件或襯底的至少一個(gè)真空室,該真空室可以被抽空并且具有至少一個(gè)真空室開(kāi)口(通過(guò)該真空室開(kāi)口,半導(dǎo)體元件或其它襯底可以被引入真空室以及從其引出),并且還包括用于抽空真空室的至少一個(gè)真空泵。例如,在用于半導(dǎo)體晶片或液晶基板的制造設(shè)備中,高度敏感的半導(dǎo)體或液晶元件在不同情況下借助于工作裝置依次通過(guò)多個(gè)處理真空室,在其中加工位于處理真空室內(nèi)的部件。在處理真空室內(nèi)的加工處理期間和從室到室的運(yùn)輸期間,高度敏感的半導(dǎo)體元件或襯底必須始終位于受保護(hù)的氣氛內(nèi)-尤其處于無(wú)空氣環(huán)境中。
為此,一方面使用外圍閥以便打開(kāi)和關(guān)閉氣體入口或出口,并且另一方面使用傳送閥以便打開(kāi)和關(guān)閉真空室的傳送開(kāi)口以引入和排出部件。
半導(dǎo)體部件所穿過(guò)的真空閥由于所描述的應(yīng)用領(lǐng)域和關(guān)聯(lián)標(biāo)注尺寸還被稱(chēng)為真空傳送閥,由于它們主要是矩形的開(kāi)口截面而被稱(chēng)為矩形閥,以及由于它們的通常工作原理而被稱(chēng)為閘閥、矩形閘閥或傳送閘閥。
外圍閥尤其用于真空室與真空泵或另一真空室之間的氣流的開(kāi)環(huán)或閉環(huán)控制。外圍閥例如位于處理真空室或傳送室與真空泵、氣氛、或另一處理真空室之間的管道系統(tǒng)內(nèi)。這種閥(還稱(chēng)為泵閥)的開(kāi)口截面一般小于真空傳送閥的情況。因?yàn)橥鈬y根據(jù)使用領(lǐng)域,不僅用于完全打開(kāi)和關(guān)閉開(kāi)口,而且通過(guò)連續(xù)調(diào)節(jié)完全打開(kāi)位置與氣密關(guān)閉位置之間的開(kāi)口截面來(lái)開(kāi)環(huán)或閉環(huán)控制流量,所以它們也被稱(chēng)為控制閥。用于開(kāi)環(huán)或閉環(huán)控制氣流的潛在外圍閥是擺閥。
對(duì)于典型擺閥的情況來(lái)說(shuō),例如從US 6089537(Olmsted)中已知的,通常圓形的閥盤(pán)在第一步中以旋轉(zhuǎn)方式在開(kāi)口(同樣通常是圓形的)上方樞轉(zhuǎn),從釋放開(kāi)口的位置移動(dòng)到覆蓋開(kāi)口的中間位置。對(duì)于閘閥的情況來(lái)說(shuō),例如在US 6416037(Geiser)或US 6056266(Blecha)中所描述的,閥盤(pán)(類(lèi)似于開(kāi)口)通常是矩形的,并且在第一步中以線性方式從釋放開(kāi)口的位置滑到覆蓋開(kāi)口的中間位置。在該中間位置,擺閥或閘閥的閥盤(pán)與圍繞開(kāi)口的閥座相對(duì)并間隔開(kāi)。在第二步,閥盤(pán)與閥座之間的距離變小,使得閥盤(pán)和閥座相對(duì)于彼此均勻地抵壓,從而以大致氣密的方式關(guān)閉開(kāi)口。該第二移動(dòng)優(yōu)選地大致沿相對(duì)于閥座的垂直方向執(zhí)行。例如,密封件可以借助于布置在閥盤(pán)的封閉側(cè)上并且壓在圍繞開(kāi)口的閥座上的環(huán)形密封件來(lái)提供,或者可以借助于閥座上的環(huán)形密封件(閥盤(pán)的封閉側(cè)抵壓著該環(huán)形密封件)來(lái)提供。借助于按兩步執(zhí)行的關(guān)閉操作,閥盤(pán)與閥座之間的密封環(huán)幾乎不經(jīng)受會(huì)破壞密封環(huán)的剪切力,這是因?yàn)樵诘诙街虚y盤(pán)的移動(dòng)大致沿垂直于閥座的直線進(jìn)行。
從現(xiàn)有技術(shù)已知不同的密封裝置,例如從US 6629682 B2(Duelli)。用于真空閥中的環(huán)形密封件和密封件的合適材料例如是還被稱(chēng)為FPM的氟橡膠,尤其是,商品名稱(chēng)為Viton的氟彈性體和全氟橡膠(簡(jiǎn)稱(chēng)FFPM)。
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