[發(fā)明專利]液體去除裝置及液體去除方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810190176.6 | 申請日: | 2018-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN108626970B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 岡田直忠 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | F26B3/00 | 分類號: | F26B3/00;F26B23/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 劉英華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液體 去除 裝置 方法 | ||
1.一種液體去除裝置,是能夠?qū)Ω街诓考谋砻娴囊后w照射激光而將所述液體去除的液體去除裝置,其特征在于,所述液體去除裝置具有:
激光光源;以及
能量控制構(gòu)件,將從所述激光光源射出的激光分割為多個激光,在所述液體所附著的照射位置,將所分割出的所述多個激光的一部分同時重疊照射,從而能夠使照射面中的能量強度不均勻,
所述能量控制構(gòu)件具有:
掩模,具有多個透射部;
透鏡陣列,設(shè)置于所述掩模的所述激光的射出側(cè),具有多個透鏡元件;以及
聚光透鏡,設(shè)置于所述透鏡陣列的所述激光的射出側(cè),
俯視時,所述多個透射部中的至少一個透射部的中心位于從對應(yīng)的透鏡元件的中心偏移的位置。
2.一種液體去除裝置,是能夠?qū)Ω街诓考谋砻娴囊后w照射激光而將所述液體去除的液體去除裝置,其特征在于,所述液體去除裝置具有:
多個激光光源;以及
能量控制構(gòu)件,在所述液體所附著的照射位置,將從所述多個激光光源射出的多個激光的一部分同時重疊照射,從而能夠使照射面中的能量強度不均勻,
所述能量控制構(gòu)件具有:
掩模,具有多個透射部;
透鏡陣列,設(shè)置于所述掩模的所述激光的射出側(cè),具有多個透鏡元件;以及
聚光透鏡,設(shè)置于所述透鏡陣列的所述激光的射出側(cè),
俯視時,所述多個透射部中的至少一個透射部的中心位于從對應(yīng)的透鏡元件的中心偏移的位置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的液體去除裝置,其特征在于,還具備:
回收部,能夠回收從所述部件的表面浮起的所述液體。
4.如權(quán)利要求1或2所述的液體去除裝置,其特征在于,
所述透鏡元件的數(shù)量與所述透射部的數(shù)量相同。
5.一種液體去除方法,對附著于部件的表面的液體照射激光而將所述液體去除,其特征在于,所述液體去除方法具備如下步驟:
將激光分割為多個激光,在所述液體所附著的照射位置,將所分割出的所述多個激光的一部分同時重疊照射,從而使照射面中的能量強度不均勻,
所述能量強度的不均勻是利用能量控制構(gòu)件進行的,
所述能量控制構(gòu)件具有:
掩模,具有多個透射部;
透鏡陣列,設(shè)置于所述掩模的所述激光的射出側(cè),具有多個透鏡元件;以及
聚光透鏡,設(shè)置于所述透鏡陣列的所述激光的射出側(cè),
俯視時,所述多個透射部中的至少一個透射部的中心位于從對應(yīng)的透鏡元件的中心偏移的位置。
6.一種液體去除方法,對附著于部件的表面的液體照射激光而將所述液體去除,其特征在于,所述液體去除方法具備如下步驟:
在所述液體所附著的照射位置,將從多個激光光源射出的多個激光的一部分同時重疊照射,從而使照射面中的能量強度不均勻,
所述能量強度的不均勻是利用能量控制構(gòu)件進行的,
所述能量控制構(gòu)件具有:
掩模,具有多個透射部;
透鏡陣列,設(shè)置于所述掩模的所述激光的射出側(cè),具有多個透鏡元件;以及
聚光透鏡,設(shè)置于所述透鏡陣列的所述激光的射出側(cè),
俯視時,所述多個透射部中的至少一個透射部的中心位于從對應(yīng)的透鏡元件的中心偏移的位置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社東芝,未經(jīng)株式會社東芝許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810190176.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





