[發明專利]一種掩膜版以及具有槽體結構的顯示屏及其制造方法有效
| 申請號： | 201810189805.3 | 申請日： | 2018-03-08 |
| 公開（公告）號： | CN108417525B | 公開（公告）日： | 2021-10-29 |
| 發明（設計）人： | 崔富毅 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/70 | 分類號： | H01L21/70;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京風雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李弘 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 掩膜版 以及 具有 結構 顯示屏 及其 制造 方法 | ||
1.一種具有槽體結構的顯示屏的制造方法，其特征在于，包括：
在襯底基板上覆蓋掩膜版后，對所述襯底基板進行有機材料的篜鍍；
將所述襯底基板上設計為開槽區的部分去除，形成具有槽體結構的顯示屏；
其中，所述掩膜版對應于所述開槽區的版面包括覆蓋所述開槽區邊框處的半刻蝕區域和覆蓋所述開槽區其余部分的全刻蝕區域。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述襯底基板上設計為開槽區的部分去除，具體包括：
沿未篜鍍有機材料的邊框處進行激光切割。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩膜版的孔隙為網狀或條狀。
4.根據權利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述半刻蝕區域和全刻蝕區域是連接于一體的。
5.一種掩膜版，用于在有機材料篜鍍前覆蓋顯示屏以形成具有槽體結構的所述顯示屏，其特征在于，所述槽體結構位于聽筒及攝像頭在所述顯示屏上的所在區域，所述掩膜版對應于襯底基板上設計為開槽區的版面包括：
覆蓋所述開槽區邊框處的半刻蝕區域和覆蓋所述開槽區其余部分的全刻蝕區域；
其中，所述開槽區與所述槽體結構相對應。
6.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版的孔隙為網狀或條狀。
7.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版具體為精細金屬掩模版。
8.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述半刻蝕區域和全刻蝕區域是連接于一體的。
9.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版中除了對應于所述開槽區的版面，其它版面為全刻蝕的版面。
10.一種具有槽體結構的顯示屏，其特征在于，為通過如權利要求5-9任一所述的掩膜版制作而成的。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
