[發(fā)明專利]一種智能在線均勻性調(diào)節(jié)系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810187708.0 | 申請日: | 2018-03-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108342704A | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊宏斌;冷慶吉;齊麗婧;郭仙;柳麗麗;李忠祥 | 申請(專利權(quán))人: | 河北物華天寶鍍膜科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務(wù)所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 倪鉅芳 |
| 地址: | 065599 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反應(yīng)氣體 均勻性調(diào)節(jié) 均勻性 在線檢測機(jī)構(gòu) 監(jiān)控計(jì)算機(jī) 鍍膜 智能 自動(dòng)化生產(chǎn)加工 鍍膜玻璃表面 在線自動(dòng)調(diào)節(jié) 真空磁控濺射 背景數(shù)據(jù) 玻璃鍍膜 氣體分配 人工操作 無線連接 有效控制 計(jì)算機(jī) 進(jìn)氣量 進(jìn)氣 調(diào)控 節(jié)約 保證 投資 | ||
本發(fā)明公開了一種智能在線均勻性調(diào)節(jié)系統(tǒng),包括:WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī)、均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī)、在線檢測機(jī)構(gòu)及反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu),反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu),控制反應(yīng)氣體進(jìn)氣速度及進(jìn)氣量,WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī)、均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī)、在線檢測機(jī)構(gòu)及反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu)相互之間通過無線連接,本發(fā)明一種智能在線均勻性調(diào)節(jié)系統(tǒng),確保實(shí)時(shí)準(zhǔn)確地進(jìn)行調(diào)控真空磁控濺射氣體分配量,并通過背景數(shù)據(jù)完全實(shí)現(xiàn)在線自動(dòng)調(diào)節(jié),不僅能有效控制鍍膜玻璃表面鍍膜的均勻性,還能降低人工操作量,在保證高質(zhì)量鍍膜的同時(shí)節(jié)約人工投資,提高了玻璃鍍膜的速率,增加了生產(chǎn)量,本發(fā)明廣泛適用于自動(dòng)化生產(chǎn)加工行業(yè)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及真空磁控濺射人工智能領(lǐng)域,更加具體的,是一種智能在線均勻性調(diào)節(jié)系統(tǒng)。
背景技術(shù)
磁控濺射需要在高本低真空下通入反應(yīng)氣體與工作氣體,環(huán)境壓力在10-3mbar的條件下形成輝光。工藝氣體進(jìn)入工藝腔室后會(huì)內(nèi)均勻分布,每個(gè)工藝腔室內(nèi)配置有5-9段可調(diào)節(jié)的輔助氣體裝置。由于大面積平板玻璃鍍膜橫向均勻性是產(chǎn)品的重要指標(biāo),影響鍍膜玻璃橫向均勻性的因素包括靶材、靶基距、氣體隔離、磁場分布等因素。
而目前磁控濺射鍍膜玻璃的均勻性大多都是人為干預(yù)調(diào)節(jié)的,不僅耗時(shí)耗工而且反應(yīng)速度慢,產(chǎn)品質(zhì)量不一。
因此,亟需一種能夠自動(dòng)化不間斷調(diào)節(jié)真空磁控濺射氣體分配量并能通過背景數(shù)據(jù)完全實(shí)現(xiàn)在線自動(dòng)調(diào)節(jié)的一種智能在線均勻性調(diào)節(jié)系統(tǒng)。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種智能在線均勻性調(diào)節(jié)系統(tǒng),集成陰極蓋板所有的外來連接,安裝簡易明了,面板控制安全。
本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種智能在線均勻性調(diào)節(jié)系統(tǒng),包括:WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī)、均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī)、在線檢測機(jī)構(gòu)及反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu),WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī),用于監(jiān)控系統(tǒng)在鍍膜玻璃進(jìn)行鍍膜過程中整體運(yùn)行及信號(hào)的傳遞情況;均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī),輸送調(diào)控指令;在線檢測機(jī)構(gòu),測量從工藝腔體出來的大板面鍍膜玻璃的橫向均勻性;反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu),控制反應(yīng)氣體進(jìn)氣速度及進(jìn)氣量,WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī)、均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī)、在線檢測機(jī)構(gòu)及反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu)相互之間通過無線連接。
在線檢測機(jī)構(gòu)有檢測儀、傳動(dòng)輥及傳動(dòng)電機(jī),檢測儀包括檢測探頭,檢測探頭檢測鍍膜玻璃鍍膜面橫向均勻量,傳動(dòng)輥表面設(shè)有傳動(dòng)帶,傳動(dòng)帶表面設(shè)有47個(gè)監(jiān)測點(diǎn),每個(gè)監(jiān)測點(diǎn)的間距為50mm,在鍍膜玻璃運(yùn)行至檢測探頭下方時(shí),傳動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)檢測探頭橫向定點(diǎn)測量。
WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī)包括監(jiān)控器、信號(hào)傳輸器及控制器,在線檢測機(jī)構(gòu)通過無線傳輸?shù)姆绞綄⒃诰€檢測機(jī)構(gòu)中47個(gè)點(diǎn)的可見光透過率傳遞至WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī),WinCC監(jiān)控計(jì)算機(jī)將47個(gè)點(diǎn)的可見光透過率連在一起,得到整張鍍膜玻璃板面鍍膜的橫向均勻性的在線數(shù)據(jù),并將得到的在線數(shù)據(jù)傳輸至均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī)與背景數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)比并得出最優(yōu)方案。
反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu)包括進(jìn)氣口及可調(diào)節(jié)陰極擋板,可調(diào)節(jié)陰極擋板設(shè)有檢測光柵及伸縮機(jī)構(gòu),反應(yīng)氣體均勻性每相差1%,反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu)對(duì)應(yīng)調(diào)節(jié)100SCCM流量的反應(yīng)氣體。
均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī)內(nèi)建立坐標(biāo)系,其中橫坐標(biāo)是鍍膜玻璃的水平位置,縱坐標(biāo)是鍍膜玻璃的厚度,副坐標(biāo)是鍍膜玻璃厚度差的百分比。
背景數(shù)據(jù)為優(yōu)化數(shù)據(jù)集合組。
作為優(yōu)化,在線檢測機(jī)構(gòu)將檢測數(shù)據(jù)傳送給均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī),通過均勻性對(duì)比計(jì)算機(jī)輸送調(diào)控指令至反應(yīng)氣體控制機(jī)構(gòu),調(diào)節(jié)可調(diào)節(jié)陰極擋板。
本發(fā)明公開的系統(tǒng)的有益效果是:
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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