[發明專利]掩膜板及掩膜板制備方法有效
| 申請號： | 201810186212.1 | 申請日： | 2018-03-07 |
| 公開（公告）號： | CN108179379B | 公開（公告）日： | 2020-05-26 |
| 發明（設計）人： | 歐凌濤;甘帥燕;卓林海 | 申請（專利權）人： | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京布瑞知識產權代理有限公司 11505 | 代理人： | 孟潭 |
| 地址： | 215300 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掩膜板 制備 方法 | ||
本發明實施例提供了一種掩膜板及掩膜板制備方法，該掩模板的全蝕刻區包括多個開口單元，每一開口單元的周圍均設置有半蝕刻區。本發明實施例提供的掩模板通過在開口單元的周圍設置半蝕刻區的方式，使粘附到玻璃基板上的蒸鍍殘留顆粒在玻璃基板的傳動過程中落入到掩膜板的半蝕刻區范圍內，從而有效防止了蒸鍍過程中殘留的顆粒對掩模板或蒸鍍產品造成損傷的情況的發生，并且有效提高了蒸鍍良率。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域，具體涉及一種掩膜板及掩膜板制備方法。
背景技術
在顯示裝置的玻璃基板蒸鍍過程中，清洗不干凈的玻璃基板上容易殘留蒸鍍顆粒，玻璃基板上殘留的顆粒以及玻璃基板傳送通道上殘留的顆粒極易借助玻璃基板的傳動而被帶入不同的蒸鍍腔室(包括通用金屬掩膜板腔室和精密金屬掩膜板腔室等)，從而造成掩膜板的損傷。
尤其是當顆粒被帶入精密金屬掩膜板腔室時，被帶入精密金屬掩膜板腔室的顆粒極易使精密金屬掩膜板網面壓出凹痕，從而直接造成產品出現固定性彩斑等不可逆轉的損傷。
發明內容
有鑒于此，本發明實施例致力于提供一種掩膜板及掩膜板制備方法，以解決蒸鍍過程中產生的蒸鍍顆粒極易造成掩膜板或產品的損傷的問題。
第一方面，本發明一實施例提供一種掩膜板，該掩模板包括全蝕刻區和不蝕刻區，其中，全蝕刻區包括多個開口單元，每一開口單元的周圍均設置有半蝕刻區。
在本發明一實施例中，開口單元位于掩膜板的開口顯示區，不蝕刻區緊鄰開口單元的外圍設置。
在本發明一實施例中，該掩模板進一步包括支撐柱，支撐柱設置于半蝕刻區范圍內。
在本發明一實施例中，半蝕刻區包括多個各自獨立的半蝕刻單元，各半蝕刻單元的輪廓、尺寸相同。
在本發明一實施例中，各半蝕刻單元均勻排布于開口單元和不蝕刻區之間。
在本發明一實施例中，半蝕刻單元的輪廓為橢圓形、圓形、矩形中的至少一種。
在本發明一實施例中，半蝕刻單元的輪廓為長條形，多個半蝕刻單元平行排布于開口單元和不蝕刻區之間。
第二方面，本發明一實施例還提供一種掩膜板制備方法，該方法包括獲取一掩膜板基材；在掩膜板基材的待蝕刻區域進行蝕刻操作形成開口單元；在形成開口單元的掩模板基材的待半蝕刻區域進行半蝕刻操作形成半蝕刻區。
在本發明一實施例中，該方法進一步包括在半蝕刻區的范圍內設置支撐柱。
在本發明一實施例中，在形成開口單元的掩模板基材的待半蝕刻區域進行半蝕刻操作形成半蝕刻區包括沿掩膜板基材的開口單元的外圍進行半蝕刻操作形成半蝕刻區。
本發明實施例提供的掩模板通過在開口單元的周圍設置半蝕刻區的方式，使粘附到玻璃基板上的蒸鍍殘留顆粒在玻璃基板的傳動過程中落入到掩膜板的半蝕刻區范圍內，從而有效防止了蒸鍍過程中殘留的顆粒對掩模板或蒸鍍產品造成損傷的情況的發生，并且有效提高了蒸鍍良率。
附圖說明
圖1所示為本發明第一實施例提供的掩膜板的結構示意圖。
圖2所示為本發明第二實施例提供的掩膜板的結構示意圖。
圖3所示為本發明第三實施例提供的掩膜板的結構示意圖。
圖4所示為本發明第三實施例提供的掩膜板的實際應用示意圖。
圖5所示為本發明第四實施例提供的掩膜板的結構示意圖。
圖6所示為本發明第五實施例提供的掩膜板制備方法的流程示意圖。
具體實施方式
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