[發(fā)明專(zhuān)利]掩膜板及掩膜板制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810186212.1
• 申請(qǐng)日: 2018-03-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108179379B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 歐凌濤;甘帥燕;卓林海
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 昆山國(guó)顯光電有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京布瑞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11505
• 代理人: 孟潭

1.一種掩膜板，包括全蝕刻區(qū)和不蝕刻區(qū)，其特征在于，所述全蝕刻區(qū)包括多個(gè)開(kāi)口單元，每一所述開(kāi)口單元的周?chē)O(shè)置有半蝕刻區(qū)，所述不蝕刻區(qū)緊鄰所述開(kāi)口單元的外圍設(shè)置，還包括支撐柱，所述支撐柱設(shè)置于所述半蝕刻區(qū)范圍內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述半蝕刻區(qū)包括多個(gè)各自獨(dú)立的半蝕刻單元，各所述半蝕刻單元的輪廓、尺寸相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述半蝕刻單元的輪廓為橢圓形、圓形、矩形中的至少一種。

4.一種掩膜板制備方法，其特征在于，包括：

獲取一掩膜板基材；

在所述掩膜板基材的待蝕刻區(qū)域進(jìn)行蝕刻操作形成開(kāi)口單元；

在形成所述開(kāi)口單元的周?chē)M(jìn)行半蝕刻操作形成半蝕刻區(qū)，并且在緊鄰所述開(kāi)口單元的外圍設(shè)置不蝕刻區(qū)；

在所述半蝕刻區(qū)的范圍內(nèi)設(shè)置支撐柱。