[發(fā)明專利]探測(cè)器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810183868.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108470690B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 村上公之輔;寺田正二;重澤祐治;明星知幸 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東京精密 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66;G01R31/26 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 肖茂深 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 臺(tái)面 支承面 晶片卡盤(pán) 探測(cè)器 導(dǎo)電性接觸件 導(dǎo)電性 配線構(gòu)件 電連接 平板狀 對(duì)置 平行 芯片背面 延伸設(shè)置 雜散電感 測(cè)定器 連接點(diǎn) 臺(tái)構(gòu)件 探針卡 一體地 電極 配置 探針 移動(dòng) | ||
本發(fā)明提供能夠使從芯片背面電極至測(cè)定器連接點(diǎn)的雜散電感降低的探測(cè)器。探測(cè)器具備:晶片卡盤(pán)(18),其具有導(dǎo)電性的支承面(18a);探針卡(24),其在與支承面(18a)對(duì)置的面具有多個(gè)探針(25);臺(tái)構(gòu)件(50),其具有導(dǎo)電性的臺(tái)面(50a)且與晶片卡盤(pán)(18)一體地移動(dòng),臺(tái)面(50a)形成為與支承面(18a)平行且與支承面(18a)電連接;導(dǎo)電性接觸件(52),其配置在與臺(tái)面(50a)對(duì)置的位置;以及平板狀配線構(gòu)件(70),其配置在與臺(tái)面(50a)平行且接近的位置,一端與導(dǎo)電性接觸件(52)電連接,且該平板狀配線構(gòu)件(70)朝向晶片卡盤(pán)(18)側(cè)延伸設(shè)置。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對(duì)形成在半導(dǎo)體晶片上的多個(gè)芯片進(jìn)行電氣檢查的探測(cè)器。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體制造工序中,對(duì)薄圓板狀的半導(dǎo)體晶片實(shí)施各種處理,從而形成半導(dǎo)體裝置(設(shè)備)所分別具有的多個(gè)芯片(裸芯)。對(duì)各芯片進(jìn)行電氣特性檢查,然后利用切割機(jī)切開(kāi),之后固定于引線框等而進(jìn)行組裝。上述電氣特性的檢查通過(guò)由探測(cè)器與測(cè)定器構(gòu)成的晶片檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行。探測(cè)器將晶片固定于晶片卡盤(pán),并使探針與各芯片的電極接觸。測(cè)定器與探針電連接,為了進(jìn)行電氣檢查而對(duì)各芯片施加電流、電壓并測(cè)定特性。
功率晶體管、功率MOSFET(場(chǎng)效應(yīng)晶體管)、IGBT(Insulated Gate BipolarTransistor;絕緣柵雙極晶體管)、LED(Light Emitting Diode;發(fā)光二極管)、半導(dǎo)體激光器等半導(dǎo)體裝置(設(shè)備)一般在晶片的表面形成有電極(芯片表面電極),并且在晶片的背面也形成有電極(芯片背面電極)。例如,在IGBT中,在晶片的表面形成有柵電極以及發(fā)射極電極,在晶片的背面形成有集電極。
為了在上述那樣的在晶片的兩面形成有多個(gè)具有電極的芯片的晶片中進(jìn)行晶片級(jí)檢查,在晶片卡盤(pán)設(shè)置有導(dǎo)電性的支承面(晶片載置面),所述支承面以接觸的狀態(tài)保持晶片的背面,并作為測(cè)定器的測(cè)定電極發(fā)揮作用。該支承面經(jīng)由從晶片卡盤(pán)引出的電纜而與測(cè)定器電連接。而且,在進(jìn)行檢查的情況下,將晶片保持于晶片卡盤(pán),在使探針與在晶片的表面形成的各芯片的電極(芯片表面電極)接觸的狀態(tài)下進(jìn)行各種測(cè)定。
然而,將晶片卡盤(pán)與測(cè)定器之間連接的電纜配設(shè)為經(jīng)由在構(gòu)成探測(cè)器的殼體的側(cè)面或背面等設(shè)置的連接器而在殼體的內(nèi)外迂回的狀態(tài),因此其長(zhǎng)度通常需要為1~3m左右。因此,在芯片背面電極與測(cè)定器之間形成的電路徑變長(zhǎng),其電阻、電感變大,因此存在產(chǎn)生高頻測(cè)定、動(dòng)態(tài)測(cè)定的測(cè)定誤差,從而無(wú)法以要求的精度適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行晶片級(jí)檢查的問(wèn)題。
為了解決這樣的問(wèn)題,例如,專利文獻(xiàn)1中記載了一種檢查裝置,該檢查裝置具備以與晶片卡盤(pán)的導(dǎo)電性的支承面相面對(duì)的方式設(shè)置的卡盤(pán)引線板、以及固定于晶片卡盤(pán)的周邊部的頂針。根據(jù)該檢查裝置,在芯片背面電極與測(cè)定器之間形成的電路徑經(jīng)由頂針與卡盤(pán)引線板而構(gòu)成,因此與上述的以往的結(jié)構(gòu)相比能夠減小在上述電路徑中產(chǎn)生的電阻、電感。
然而,在專利文獻(xiàn)1所記載的檢查裝置中,頂針固定于晶片卡盤(pán),因此芯片背面電極與測(cè)定器之間的電路徑的長(zhǎng)度根據(jù)所檢查的芯片在晶片上的位置而發(fā)生變化。例如,在對(duì)存在于晶片的中央附近的芯片進(jìn)行檢查的情況和對(duì)存在于晶片的端部附近的芯片進(jìn)行檢查的情況下,上述電路徑的長(zhǎng)度不同。因此,在上述電路徑中產(chǎn)生的電阻、阻抗根據(jù)所檢查的芯片在晶片上的位置而發(fā)生變化,對(duì)高頻測(cè)定、動(dòng)態(tài)測(cè)定產(chǎn)生不利影響,存在無(wú)法高精度地進(jìn)行晶片級(jí)檢查的問(wèn)題。
針對(duì)這種問(wèn)題,本發(fā)明申請(qǐng)人提出了一種探測(cè)器,該探測(cè)器構(gòu)成為使固定于與臺(tái)構(gòu)件相面對(duì)的位置的接觸件與同晶片卡盤(pán)一體地移動(dòng)的導(dǎo)電性的臺(tái)構(gòu)件電接觸(參照專利文獻(xiàn)2)。根據(jù)該探測(cè)器,不受所檢查的芯片在晶片上的位置影響,在芯片背面電極與測(cè)定器之間形成的電路徑中的電阻、阻抗小且變動(dòng)少,因此能夠穩(wěn)定地進(jìn)行高頻測(cè)定、動(dòng)態(tài)測(cè)定,能夠高精度地進(jìn)行晶片級(jí)檢查。
在先技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2011-138865號(hào)公報(bào)
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





