[發(fā)明專利]一種光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810183042.1 | 申請日: | 2018-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN108415171A | 公開(公告)日: | 2018-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 范真節(jié);邢廷文;林嫵媚;李聲;廖志杰 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | G02B27/09 | 分類號: | G02B27/09;G02B27/30 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610209 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng) 準(zhǔn)直擴(kuò)束器 柱面鏡 激光光束 光焦度 傳輸距離 方向光束 發(fā)散角 球面鏡 光刻技術(shù) 光束口徑 機(jī)械控制 單片 動(dòng)件 擴(kuò)束 兩組 裝調(diào) 準(zhǔn)直 激光 口徑 傳輸 加工 保證 | ||
本發(fā)明提供一種光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng),解決了高NA光刻技術(shù)中激光光束在不同傳輸距離時(shí),光束口徑和發(fā)散角不能滿足使用需求的問題。所述光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)由兩塊球面鏡和四塊柱面鏡組成,其中兩塊柱面鏡光焦度為y方向,另外兩塊柱面鏡光焦度為x方向,單片球面鏡與不同光焦度方向柱面鏡組成一組準(zhǔn)直擴(kuò)束器,該系統(tǒng)共兩組準(zhǔn)直擴(kuò)束器,第一組準(zhǔn)直擴(kuò)束器先對激光光束進(jìn)行擴(kuò)束,然后使激光在5米~20米范圍內(nèi)傳輸,再用第二組準(zhǔn)直擴(kuò)束器對激光光束進(jìn)行準(zhǔn)直,保證x方向光束和y方向光束均能口徑和發(fā)散角要求。該光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,易于加工裝調(diào),在不同傳輸距離時(shí)無動(dòng)件,易于機(jī)械控制。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng),屬于光刻照明技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
光學(xué)投影曝光技術(shù)自1978年誕生以來,先后經(jīng)歷了g線、i線、248nm、193nm等幾個(gè)技術(shù)發(fā)展階段。從出現(xiàn)至今的短短幾十年的時(shí)間里,受到社會(huì)信息化進(jìn)程的強(qiáng)烈牽引,與光學(xué)投影曝光技術(shù)相關(guān)的集成電路先后經(jīng)歷了小規(guī)模、超大規(guī)模直至極大規(guī)模等幾個(gè)發(fā)展階段,極大規(guī)模集成電路已經(jīng)成為高技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展的基石,從衛(wèi)星、火箭等航空航天領(lǐng)域,到雷達(dá)、激光制導(dǎo)導(dǎo)彈國防領(lǐng)域,以及人們?nèi)粘I畹母鱾€(gè)領(lǐng)域都離不開極大規(guī)模集成電路,它不僅是主要的信息處理器件,同時(shí)也發(fā)展成為信息存儲(chǔ)的重要載體之一。把越來越多的晶體管電路元件集成在硅片上,一直是國際微電子工業(yè)界不懈追求的目標(biāo)。因此,減小集成電路最小線寬尺寸是提高存儲(chǔ)能力的重要手段。在加工制造集成電路的設(shè)備很多,光刻機(jī)是目前技術(shù)最成熟的設(shè)備。光刻機(jī)的核心部件是投影曝光光學(xué)系統(tǒng),該系統(tǒng)最重要的組成部分是照明系統(tǒng)和投影物鏡系統(tǒng)。照明系統(tǒng)主要功能是為掩模面提供均勻照明、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)照明模式。隨著半導(dǎo)體工業(yè)和納米技術(shù)的發(fā)展,對新一代具有納米級超精密圖形分辨力的光刻技術(shù)的需求顯得更加迫切。實(shí)踐證明,在發(fā)展短波長和高數(shù)值孔徑的同時(shí),采用諸如離軸照明、移相掩模、光學(xué)鄰近效應(yīng)校正、光瞳濾波等分辨力增強(qiáng)技術(shù),將上述幾種技術(shù)有機(jī)地結(jié)合起來,對于延伸現(xiàn)有光學(xué)光刻技術(shù)分辨力,延緩下一代光刻技術(shù)的成熟將起到重要的作用。
然而用于光刻的激光器出射光束口徑通常只有十幾毫米,該口徑不能滿足光刻照明需用寬光束的要求,使用時(shí)需對激光器發(fā)射光束進(jìn)行擴(kuò)束,同時(shí),由激光器發(fā)射的光束激光發(fā)散角達(dá)到4毫弧度甚至更高,因激光傳輸距離最大為20米,因此使用時(shí)需要對該發(fā)散角進(jìn)行抑制,即準(zhǔn)直,發(fā)散角越小即準(zhǔn)直程度越高,激光準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)的作用就是激光光束擴(kuò)束成寬闊的準(zhǔn)直光束,保證投射到衍射元件上的光束滿足口徑和發(fā)散角指標(biāo)要求。
在中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所申請的專利200910217314.6中,介紹了通過改變透鏡間隔來保證準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)因環(huán)境溫度變化而引起的擴(kuò)束倍率和發(fā)散角的變化。中科院上海技術(shù)物理研究所申請的專利200810203386.0一文中提到利用變倍原理實(shí)現(xiàn)激光光束的連續(xù)變倍擴(kuò)束。以上技術(shù)僅適用于出射激光光束x方向通光口徑等于y方向通光口徑、x方向發(fā)散角等于y方向發(fā)散角的情況,存在動(dòng)鏡,且以上技術(shù)不能在激光傳輸距離改變時(shí)保證最終目標(biāo)光束通光口徑和發(fā)散角滿足使用要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題為:提供一種光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng),解決高NA光刻技術(shù)中光束在不同傳輸距離的情況下光束口徑和發(fā)散角仍能滿足使用要求。所述光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)由兩塊球面鏡和四塊柱面鏡組成,其中兩塊柱面鏡光焦度為y方向,另外兩塊柱面鏡光焦度為x方向,單片球面鏡與不同光焦度方向柱面鏡組成一組準(zhǔn)直擴(kuò)束器,該系統(tǒng)共兩組準(zhǔn)直擴(kuò)束器,第一組準(zhǔn)直擴(kuò)束器先對激光光束進(jìn)行擴(kuò)束,然后使激光在5米~20米范圍內(nèi)傳輸,再用第二組準(zhǔn)直擴(kuò)束器對激光光束進(jìn)行準(zhǔn)直,保證x方向光束和y方向光束均能滿足口徑和發(fā)散角要求。該光學(xué)準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,易于加工裝調(diào),在不同傳輸距離時(shí)無動(dòng)件,易于機(jī)械控制,該系統(tǒng)對提升整個(gè)高均勻性照明以及整個(gè)光刻曝光光學(xué)系統(tǒng)性能都起著至關(guān)重要的作用。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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