[發明專利]一種化學氣相沉積裝置

有效

• 申請號: 201810178462.0
• 申請日: 2018-03-05
• 公開（公告）號: CN108342715B
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 郭君龍
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發明提供的化學氣相沉積裝置，包括：反應腔室，以及相對設置的上極板與下極板；傳動裝置，包括一主體部以及設置在主體部上方的支撐部，傳動裝置設置在下極板的下方，其中，所述傳動裝置上設置有調節部件，調節部件用于調節下極板的位置，防止下極板的位置發生旋轉偏移。通過在傳動裝置上設置調節部件，在實際生產過程中，調節部件可以直接調節下極板的位置，以達到防止下極板的位置發生旋轉偏移的目的，并且，調節時不需要降溫，也不需要打開反應腔室，因此縮短了生產周期，提高了生產效率。

技術領域

本發明涉及化學氣相沉積領域，具體涉及一種化學氣相沉積裝置。

背景技術

等離子體增強化學氣相沉積法是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，從而在基板上沉積出薄膜。

陶瓷桶是等離子體增強化學氣相沉積設備間距調節的傳動裝置，在傳統的結構中，整個陶瓷桶是簡潔回轉體，并由止固螺絲固定在動軌上；在實際應用中，由于運動的偏移以及機械誤差等因素，導致基底相對于理想位置存在偏移。所以，當基底發生偏移時，現有的做法是打開反應腔室，推動基底來實現調節。但由于每次調節都需要降溫以及打開反應腔室，因此延長了生產周期，導致生產效率降低。

因此，有必要提供一種化學氣相沉積裝置，以解決現有技術所存在的問題。

發明內容

本發明實施例提供一種化學氣相沉積裝置，能夠縮短生產周期，提高生產效率。

本發明提供了一種化學氣相沉積裝置，包括：

反應腔室，以及相對設置的上極板與下極板，所述上極板與所述下極板設置在所述反應腔室內；

傳動裝置，包括一主體部以及設置在所述主體部上方的支撐部，所述傳動裝置設置在所述下極板的下方，其中，所述傳動裝置上設置有調節部件，所述調節部件用于調節所述下極板的位置，防止所述下極板的位置發生旋轉偏移。

其中，所述支撐部位于所述反應腔室的內部，所述本體部的上部位于所述反應腔室的內部，所述本體部的下部從所述反應腔室穿出，位于所述反應腔室外部；其中，所述調節部件位于所述本體部的下部。

根據本發明一優選實施例，所述調節部件包括設置在所述主體部側壁上的若干個齒輪；所述反應腔室下壁外側上設置有與所述若干個齒輪配合的螺絲，所述螺絲的至少為兩個，且相對設置在所述主體部側壁的兩側；所述若干個齒輪與所述螺絲配合以調節所述下極板的位置，防止所述下極板的位置發生旋轉偏移。

根據本發明一優選實施例，包括設置在所述主體部下方的馬達，所述馬達與所述調節部件配合，以調節所述下極板的位置，防止所述下極板的位置發生旋轉偏移。

根據本發明一優選實施例，所述若干個齒輪的大小、形狀均一致。

根據本發明一優選實施例，所述調節部件包括設置在所述主體部的側壁上的至少兩組鍵孔，所述任一組鍵孔的數量為一個或者多個；以及與所述至少兩組鍵孔配合使用的至少兩個調節板；其中，所述任一組鍵孔位于主體部的相對兩側且位于同一平面，所述鍵孔與所述調節板均位于所述反應腔室外。

根據本發明一優選實施例，所述調節板包括第一部分和第二部分；其中，所述第一部分的長度大于所述第二部分的長度，所述第二部分為空心結構，且所述第二部分與所述主體部的截面大小、形狀一致；所述第二部分的內側上設置有與所述鍵孔匹配的第一突起部，所述第一突起部與所述鍵孔配合以固定所述主體部。

根據本發明一優選實施例，所述至少兩個調節板的形狀、大小均一致。

根據本發明一優選實施例，所述主體部的內部為空心結構，以伸出所需的走線。

根據本發明一優選實施例，所述支撐部的側壁設置有若干個第二突起部，所述第二突起部用于連接所述下極板。