[發明專利]一種化學氣相沉積裝置

有效

• 申請號: 201810178462.0
• 申請日: 2018-03-05
• 公開（公告）號: CN108342715B
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 郭君龍
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種化學氣相沉積裝置，其特征在于，包括：

反應腔室，以及相對設置的上極板與下極板，所述上極板與所述下極板設置在所述反應腔室內；

傳動裝置，包括主體部以及設置在所述主體部上方的支撐部，所述支撐部位于所述反應腔室的內部，所述主體部的上部位于所述反應腔室的內部，所述主體部的下部從所述反應腔室穿出，位于所述反應腔室外部，所述傳動裝置設置在所述下極板的下方，其中，所述傳動裝置上設置有調節部件，所述調節部件用于調節所述下極板的位置，防止所述下極板的位置發生旋轉偏移，其中，所述調節部件位于所述主體部的下部，所述調節部件包括設置在所述主體部的側壁上的至少兩組鍵孔，所述鍵孔的數量為一個或者多個；以及與所述至少兩組鍵孔配合使用的至少兩個調節板；其中，所述鍵孔位于主體部的相對兩側且位于同一平面，所述鍵孔與所述調節板均位于所述反應腔室外；

所述調節板包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分的長度大于所述第二部分的長度，所述第二部分為空心結構，且所述第二部分與所述主體部的截面大小、形狀一致，所述第二部分的內側上設置有與所述鍵孔匹配的第一突起部，所述第一突起部與所述鍵孔配合以固定所述主體部；所述支撐部的側壁上設置有多個第二突起部，且所述下極 板與所述多個第二突起部連接處設置有多個凹糟，所述多個凹槽用于使傳動裝置與下極板固定連接。

2.根據權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述調節部件包括設置在所述主體部側壁上的若干個齒輪；

所述反應腔室下壁外側上設置有與所述若干個齒輪配合的螺絲，所述螺絲的至少為兩個，且相對設置在所述主體部側壁的兩側；

所述若干個齒輪與所述螺絲配合以調節所述下極板的位置，防止所述下極板的位置發生旋轉偏移。

3.根據權利要求2所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，還包括設置在所述主體部下方的馬達，所述馬達與所述調節部件配合，以調節所述下極板的位置，防止所述下極板的位置發生旋轉偏移。

4.根據權利要求3所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述若干個齒輪的大小、形狀均一致。

5.根據權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述至少兩個調節板的形狀、大小均一致。

6.根據權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述主體部的內部為空心結構，以伸出所需的走線。