[發(fā)明專利]減反膜及其制備方法、陣列基板、顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810174956.1
• 申請(qǐng)日: 2018-03-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108363235A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張東徽;李靜;馬小葉;劉海峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335;G02F1/1362;H01L27/12
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;王衛(wèi)忠

本公開(kāi)提供一種減反膜及其制備方法、陣列基板、顯示裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域。所述減反膜包括薄膜本體，所述薄膜本體包括經(jīng)過(guò)圖案化處理而得到的光路控制結(jié)構(gòu)；其中，所述減反膜設(shè)于襯底基板上，且所述襯底基板位于所述減反膜與空氣之間，所述光路控制結(jié)構(gòu)被配置為使入射光線在所述襯底基板與空氣的界面上發(fā)生全反射。本公開(kāi)可在不影響透過(guò)率的情況下降低顯示裝置對(duì)環(huán)境光的反射。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開(kāi)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種減反膜及其制備方法、陣列基板、顯示裝置。

背景技術(shù)

LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)包括對(duì)盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板。普通的LCD通常會(huì)采用彩膜基板位于環(huán)境光側(cè)、陣列基板位于背光側(cè)的設(shè)計(jì)，這樣可使環(huán)境光入射之后首先接觸RGB光阻或者BM(Black Matrix，黑矩陣)，光阻或者BM反射的光出射后對(duì)用戶的觀看體驗(yàn)影響較小。而基于特殊要求的LCD有時(shí)會(huì)采用陣列基板位于環(huán)境光側(cè)、彩膜基板位于背光側(cè)的設(shè)計(jì)，此時(shí)柵金屬層和源漏金屬層直接面向用戶，因此環(huán)境光的反射較強(qiáng)，這樣會(huì)對(duì)用戶的視覺(jué)感受產(chǎn)生較大的影響。基于此，減反膜的設(shè)計(jì)往往成為此種結(jié)構(gòu)的重要考量因素。

現(xiàn)有的減反膜設(shè)計(jì)通常采用在柵金屬層面向襯底基板的一側(cè)設(shè)置整層減反射膜層，例如ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)層，以此方法來(lái)降低對(duì)環(huán)境光的反射。但是，整層的減反膜設(shè)計(jì)對(duì)于顯示屏的透過(guò)率具有較大的影響，由此可能造成背光的功率增大，從而導(dǎo)致產(chǎn)品的功耗增大。

需要說(shuō)明的是，在上述背景技術(shù)部分公開(kāi)的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本公開(kāi)的背景的理解，因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

發(fā)明內(nèi)容

本公開(kāi)的目的在于提供一種減反膜及其制備方法、陣列基板、顯示裝置，以用于解決陣列基板向外的顯示裝置的環(huán)境光反射較大的問(wèn)題，同時(shí)避免對(duì)顯示裝置的透過(guò)率產(chǎn)生較大的影響。

本公開(kāi)的其他特性和優(yōu)點(diǎn)將通過(guò)下面的詳細(xì)描述變得顯然，或部分地通過(guò)本公開(kāi)的實(shí)踐而習(xí)得。

根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面，提供一種減反膜，包括薄膜本體，所述薄膜本體包括經(jīng)過(guò)圖案化處理而得到的光路控制結(jié)構(gòu)；

其中，所述減反膜設(shè)于襯底基板上，且所述襯底基板位于所述減反膜與空氣之間，所述光路控制結(jié)構(gòu)被配置為使入射光線在所述襯底基板與空氣的界面上發(fā)生全反射。

本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述薄膜本體包括第一薄膜和第二薄膜構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)，所述第二薄膜設(shè)于所述第一薄膜背離所述襯底基板的一側(cè)；

所述光路控制結(jié)構(gòu)包括由所述第一薄膜經(jīng)過(guò)圖案化處理而得到的凸部以及由所述第二薄膜經(jīng)過(guò)圖案化處理而得到的凹部，且所述凸部的凸出面與所述凹部的凹陷面相互貼合；

其中，所述凸部的底面與側(cè)面之間的夾角的兩倍大于光線從所述襯底基板射向空氣時(shí)的臨界角。

本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述凸部和所述凹部為棱錐結(jié)構(gòu)。

本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述第一薄膜包括氮化硅薄膜，所述第二薄膜包括非晶硅薄膜。

本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述薄膜本體包括第三薄膜構(gòu)成的結(jié)構(gòu)，所述光路控制結(jié)構(gòu)包括由所述第三薄膜經(jīng)過(guò)圖案化處理而得到的納米管結(jié)構(gòu)。

本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述第三薄膜包括非晶硅薄膜。

根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面，提供一種減反膜的制備方法，包括：

在襯底基板上形成薄膜本體，并對(duì)所述薄膜本體進(jìn)行圖案化處理以得到光路控制結(jié)構(gòu)；

其中，所述襯底基板位于所述減反膜與空氣之間，所述光路控制結(jié)構(gòu)被配置為使入射光線在所述襯底基板與空氣的界面上發(fā)生全反射。