[發明專利]標注裝置、缺陷檢查系統以及膜制造方法在審
| 申請號: | 201810170417.0 | 申請日: | 2018-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN108535275A | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發明(設計)人: | 井村圭太;越野哲史 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/896 | 分類號: | G01N21/896 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 劉文海 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液滴 標注裝置 射出孔 飛沫 射出 射出面 飛濺 缺陷檢查系統 遮擋構件 光學膜 開口部 遮擋 法線 標注信息 缺陷位置 射出裝置 成品率 內壁面 對置 附著 有向 制造 開口 | ||
本發明提供即使從射出孔射出液滴時飛濺有飛沫,也能夠抑制飛沫附著于膜的缺陷位置以外的區域,從而提高產品的成品率的標注裝置、缺陷檢查系統以及膜制造方法。標注裝置能夠通過對光學膜射出液滴而標注信息,其中,標注裝置具備:液滴射出裝置,其具有形成有向光學膜射出液滴的射出孔的射出面;以及遮擋構件,其設置于射出面,且能夠遮擋從射出孔射出液滴時飛濺的飛沫,在遮擋構件形成有開口部,該開口部在與射出孔對置的位置開口,并且具有遮擋向與射出面的法線交叉的方向飛濺的飛沫的內壁面。
技術領域
本發明涉及標注裝置、缺陷檢查系統以及膜制造方法。
背景技術
例如,偏振膜等光學膜在進行異物缺陷、凹凸缺陷等缺陷檢查后卷繞于芯材。與缺陷的位置、種類相關的信息(以下稱作“缺陷信息”)通過在光學膜的寬度方向的端部印刷條形碼、在缺陷位置實施標注而記錄于光學膜。卷繞于芯材的光學膜在卷繞量達到一定量時與上游側的光學膜分離,并作為卷料輥而出廠。另外,根據在缺陷位置實施的標注而將光學膜切出,從而取出單張物品(產品)。
例如,在專利文獻1中公開了如下的缺陷標注裝置,該缺陷標注裝置能夠一邊檢測具有恒定的寬度且沿與寬度方向垂直的長度方向搬運的片狀產品的局部缺陷,一邊為了明示檢測出的缺陷的部分而施加標注用的痕跡。另一方面,在專利文獻2中,作為標注手法例示了噴墨等非接觸的印刷方式。
在先技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2002-303580號公報
專利文獻2:日本特開2011-102985號公報
本申請人還進行了能夠通過對光學膜射出液滴從而標注信息的標注裝置的開發。該標注裝置具備液滴射出裝置,該液滴射出裝置具有形成有向光學膜射出液滴的射出孔的射出面。通過本發明人的研究得知:在這種標注裝置中,根據從射出孔射出的液滴的尺寸以及粘性等特性,在從射出孔射出液滴時飛濺有飛沫。在從射出孔射出液滴時飛濺有飛沫的情況下,若飛濺的飛沫附著于光學膜的缺陷位置以外的區域,則原本應當作為產品而取出的部分有時會被飛沫污染,不得不將被污染的部分作為不合格品而廢棄,存在產品的成品率降低的可能性。
發明內容
發明所要解決的課題
本發明是鑒于上述情況而完成的,提供即使在從射出孔射出液滴時飛濺有飛沫,也能夠抑制飛沫附著于膜的缺陷位置以外的區域,從而提高產品的成品率的標注裝置、缺陷檢查系統以及膜制造方法。
用于解決課題的方案
為了實現上述目的,本發明采用了以下的方案。
(1)本發明的1個方式所涉及的標注裝置能夠通過對光學膜射出液滴而標注信息,其中,所述標注裝置具備:液滴射出裝置,其具有形成有向所述光學膜射出所述液滴的射出孔的射出面;以及遮擋構件,其設置于所述射出面,且能夠遮擋從所述射出孔射出所述液滴時飛濺的飛沫,在所述遮擋構件形成有開口部,該開口部在與所述射出孔對置的位置開口,并且具有遮擋向與所述射出面的法線交叉的方向飛濺的所述飛沫的內壁面。
(2)在上述(1)所述的標注裝置中,也可以為,所述遮擋構件具備在與所述射出面的法線平行的方向上具有厚度的遮擋板。
(3)在上述(2)所述的標注裝置中,也可以為,所述標注裝置還具備能夠將所述遮擋板固定于所述液滴射出裝置的固定構件。
(4)在上述(3)所述的標注裝置中,也可以為,所述固定構件具備:第一壁部,其覆蓋所述液滴射出裝置以及所述遮擋板雙方中的沿與所述射出面的法線交叉的方向配置的側端部;以及第二壁部,其覆蓋所述遮擋板的與所述射出面相反的一側的面中的所述開口部的外周的外緣部。
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