[發(fā)明專利]一種硅片清洗液及硅片清洗方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810167905.6
• 申請(qǐng)日: 2018-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN108384667A
• 公開（公告）日: 2018-08-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉長(zhǎng)明;金井升;張昕宇;金浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
• 主分類號(hào): C11D7/08
• 分類號(hào): C11D7/08;C11D3/39;B08B3/08;H01L31/18
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

本申請(qǐng)公開了一種硅片清洗液及硅片清洗方法，該硅片清洗液包括氫氟酸、鹽酸、過氧化氫溶液和去離子水，該硅片清洗方法包括在25℃至75℃的溫度下，利用上述硅片清洗液對(duì)金屬催化制絨和單質(zhì)金屬離子化之后的硅片進(jìn)行后清洗。利用上述硅片清洗液及硅片清洗方法，能夠在低成本的基礎(chǔ)上更好的清洗掉硅片表面的金屬，降低金屬污染帶來的復(fù)合，提升電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于光伏設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別設(shè)涉及一種硅片清洗液及硅片清洗方法。

背景技術(shù)

光伏能源作為最重要的新型清潔能源，是21世紀(jì)人類重點(diǎn)發(fā)展和推廣的新能源項(xiàng)目。目前，行業(yè)內(nèi)的一個(gè)重要目標(biāo)是降低生產(chǎn)成本以實(shí)現(xiàn)光伏電能的平價(jià)上網(wǎng)，其中，提升光伏產(chǎn)品的效率是降低生產(chǎn)成本的一個(gè)重要途徑。目前的晶體硅電池受技術(shù)的制約，受光面的結(jié)構(gòu)還沒有達(dá)到理想的效果，導(dǎo)致光利用率仍然偏低。目前在行業(yè)的上游硅片端，金剛線切割技術(shù)正在不斷替代常規(guī)的砂漿線切割技術(shù)，其主要優(yōu)勢(shì)是可以降低0.3至0.5元/片的切片成本，常規(guī)的HF/HNO₃體系無法對(duì)金剛線切割的多晶硅片進(jìn)行有效制絨，要實(shí)現(xiàn)金剛線切割硅片的制絨，目前用的最多的兩類技術(shù)是干法黑硅技術(shù)和濕法黑硅技術(shù)，黑硅技術(shù)可以大幅降低表面反射率到5～10％，提升了光利用率及電池效率，而干法黑硅技術(shù)具有較高的成本，因此推廣不及價(jià)格相對(duì)低廉的濕法黑硅技術(shù)，濕法黑硅技術(shù)常用的就是MACE(Metal Asist Chemical Etch)技術(shù)，顧名思義，就是金屬催化制絨，其通過引入金屬催化劑到硅片表面進(jìn)行制絨，而硅對(duì)金屬離子的敏感度非常高，若不能有效去除這些引入的金屬添加劑，則在硅的表面及內(nèi)部會(huì)形成大量的復(fù)合中心，電池效率也無法做到理想的水平。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種硅片清洗液及硅片清洗方法，能夠在低成本的基礎(chǔ)上更好的清洗掉硅片表面的金屬，降低金屬污染帶來的復(fù)合，提升電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

本發(fā)明提供的一種硅片清洗液，包括氫氟酸、鹽酸、過氧化氫溶液和去離子水。

優(yōu)選的，在上述硅片清洗液中，所述氫氟酸的體積濃度為5％至30％。

優(yōu)選的，在上述硅片清洗液中，所述鹽酸的體積濃度為5％至35％。

優(yōu)選的，在上述硅片清洗液中，所述過氧化氫溶液的體積濃度為5％至35％。

本發(fā)明提供的一種硅片清洗方法，包括在25℃至75℃的溫度下，利用如上面任一項(xiàng)所述的硅片清洗液對(duì)金屬催化制絨和單質(zhì)金屬離子化之后的硅片進(jìn)行后清洗。

優(yōu)選的，在上述硅片清洗方法中，所述單質(zhì)金屬離子化過程包括將所述硅片置于硝酸溶液中浸泡并作鼓泡處理，持續(xù)5分鐘。

優(yōu)選的，在上述硅片清洗方法中，所述后清洗的溫度為50℃。

通過上述描述可知，本發(fā)明提供的上述硅片清洗液及硅片清洗方法，由于這種硅片清洗液中包括氫氟酸和鹽酸，因此能夠去除離子態(tài)金屬，且由于還包括過氧化氫溶液，因此還能夠去除單質(zhì)態(tài)金屬，從而能夠在低成本的基礎(chǔ)上更好的清洗掉硅片表面的金屬，降低金屬污染帶來的復(fù)合，提升電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為利用本申請(qǐng)實(shí)施例提供的硅片清洗液進(jìn)行清洗之后的硅片表面放大圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明的核心思想在于提供一種硅片清洗液及硅片清洗方法，能夠在低成本的基礎(chǔ)上更好的清洗掉硅片表面的金屬，降低金屬污染帶來的復(fù)合，提升電池的光電轉(zhuǎn)換效率。