[發(fā)明專利]薄膜晶體管、陣列基板、顯示面板及其制備方法、終端有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810164121.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108365013B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 虞曉江 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/786 | 分類號(hào): | H01L29/786;H01L21/336;H01L27/12 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市武*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜晶體管 陣列 顯示 面板 及其 制備 方法 終端 | ||
1.一種薄膜晶體管,其特征在于,所述薄膜晶體管包括基板、位于所述基板上的有源層和柵極以及設(shè)于所述柵極和所述有源層之間的柵極絕緣層,所述有源層朝向所述柵極的表面包括第一區(qū)域和朝向所述柵極凸出所述第一區(qū)域的第二區(qū)域,所述柵極的周緣設(shè)有朝向所述有源層突出的尖角部,所述尖角部對(duì)應(yīng)于所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域的連接處。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述基板包括襯底基板和位于所述襯底基板上的遮光層,所述遮光層與所述第二區(qū)域相對(duì)應(yīng)。
3.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述柵極絕緣層背離所述有源層的表面包括第三區(qū)域和朝向所述柵極凸出所述第三區(qū)域的第四區(qū)域,所述第四區(qū)域與所述第二區(qū)域相對(duì)應(yīng),所述第三區(qū)域與所述第一區(qū)域相對(duì)應(yīng)。
4.如權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述基板包括覆蓋所述襯底基板和所述遮光層的緩沖絕緣層,所述緩沖絕緣層背離所述遮光層的表面包括第五區(qū)域和背離所述遮光層凸出所述第五區(qū)域的第六區(qū)域,所述第六區(qū)域與所述遮光層相對(duì)應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述柵極絕緣層的厚度在100nm以下。
6.一種陣列基板,其特征在于,所述陣列基板包括如權(quán)利要求1~5任一項(xiàng)所述的薄膜晶體管。
7.一種顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括如權(quán)利要求6所述的陣列基板。
8.一種終端,其特征在于,所述終端包括如權(quán)利要求7所述的顯示面板。
9.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在所述基板上形成有源層,其中,所述有源層背離所述基板的表面包括第一區(qū)域和背離所述基板凸出所述第一區(qū)域的第二區(qū)域;
在所述有源層上形成柵極絕緣層;
在所述柵極絕緣層上形成柵極,其中,所述柵極的周緣設(shè)有朝向所述有源層突出的尖角部,所述尖角部對(duì)應(yīng)于所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域的連接處。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





