[發明專利]柔性基板及其制作方法

在審

• 申請號: 201810161890.2
• 申請日: 2018-02-26
• 公開（公告）號: CN108385078A
• 公開（公告）日: 2018-08-10
• 發明（設計）人: 邵源
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/20;C23C14/35
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

本發明公開了一種柔性基板及其制作方法，該制作方法包括：將柔性襯底卷繞到旋轉裝置上；控制柔性襯底旋轉；將金屬粒子沉積到柔性襯底的表面；金屬粒子在柔性襯底表面形成金屬膜。通過以上方法，使金屬粒子在柔性襯底卷曲狀態下沉積成膜，以吸收柔性基板平展后或者更加卷曲時金屬膜自身的硬度帶來的應力，保護金屬膜不發生斷裂現象，而且形成的金屬膜也因為金屬粒子的旋轉沉積而薄厚均勻，避免了厚度不均造成的柔性襯底翹曲的現象。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種柔性基板及其制作方法。

背景技術

隨著電子顯示技術的不斷發展，柔性顯示裝置(柔性TFT-LCD,柔性OLED等)以其質量輕，厚度小，壽命長，可彎曲等眾多優點，成為了最具發展潛力的新一代顯示技術。現在主流的柔性基板的柔性襯底主要包括超薄玻璃、金屬類以及聚合物薄膜三大類，其中應用最多的是聚合物柔性襯底，如PI(聚酰亞胺)襯底材料，其良好的力學性能、優異的耐化性能、良好的光學透過率、可“卷對卷”生產等特點，成為現有柔性襯底的首選材料并得到廣泛的重視。

但是，在柔性基板彎曲和展開的過程中，在柔性襯底上由金屬膜蝕刻而來的金屬線很可能由于應力得不到充分吸收而發生斷裂，極易導致整個柔性基板發生故障，且該種故障排查困難，維修不易，致使柔性基板的故障率較高。而且，金屬膜薄厚不均勻，也造成了柔性襯底翹曲的現象。

發明內容

本發明主要提供一種柔性基板及其制作方法，旨在解決目前的柔性基板在彎曲或展開時，其金屬膜層因應力無法被充分吸收而發生斷裂和金屬膜薄厚不均勻造成的柔性襯底翹曲的問題。

為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是：提供一種柔性基板的制作方法，所述方法包括：

將柔性襯底卷繞到旋轉裝置上；

控制所述柔性襯底旋轉；

將金屬粒子沉積到所述柔性襯底的表面；及

所述金屬粒子在所述柔性襯底表面形成金屬膜。

為解決上述技術問題，本發明采用的另一種技術方案是：提供一種柔性基板，所述柔性基板通過上述柔性基板的制作方法制得。

本發明的有益效果是：通過將柔性襯底卷繞到旋轉裝置上，使金屬粒子在柔性襯底卷曲狀態下沉積成膜，以吸收柔性基板平展后或者卷曲時金屬膜自身的硬度帶來的應力，保護金屬膜不發生斷裂現象，而且金屬膜也因為金屬粒子的旋轉沉積而薄厚均勻，避免了厚度不均造成的柔性襯底翹曲的現象。

附圖說明

圖1是本發明柔性基板的制作方法的流程示意圖；

圖2是本發明柔性基板的制作方法的操作示意圖；

圖3是本發明柔性基板的結構示意圖。

具體實施方式

請參閱圖1，是本發明柔性基板的制作方法的流程示意圖。如圖1所示，本發明柔性基板的制作方法包括如下步驟：

步驟S1：將柔性襯底2卷繞到旋轉裝置1上；

步驟S2：控制柔性襯底2旋轉；

步驟S3：將金屬粒子沉積到柔性襯底2的表面；

步驟S4：金屬粒子在柔性襯底2表面形成金屬膜3；

步驟S5：將柔性襯底2遠離金屬膜3的表面吸附在平坦基板上；

步驟S6：在金屬膜3上涂布、曝光、顯影；

步驟S7：解除真空吸附以將柔性襯底2與平坦基板分離。