[發明專利]柔性基板及其制作方法在審
| 申請號： | 201810161890.2 | 申請日： | 2018-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN108385078A | 公開（公告）日： | 2018-08-10 |
| 發明（設計）人： | 邵源 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/56 | 分類號： | C23C14/56;C23C14/20;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 鐘子敏 |
| 地址： | 518006 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 金屬粒子 金屬膜 柔性基板 襯底 沉積 制作 襯底表面 襯底翹曲 襯底旋轉 斷裂現象 厚度不均 卷曲狀態 旋轉裝置 卷曲 成膜 卷繞 平展 吸收 | ||
1.一種柔性基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
將柔性襯底卷繞到旋轉裝置上；
控制所述柔性襯底旋轉；
將金屬粒子沉積到所述柔性襯底的表面；及
所述金屬粒子在所述柔性襯底表面形成金屬膜。
2.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金屬粒子在所述柔性襯底表面形成金屬膜之后還包括：
將所述柔性襯底遠離所述金屬膜的表面吸附在平坦基板上；
在所述金屬膜上涂布、曝光、顯影；及
解除真空吸附以將所述柔性襯底與所述平坦基板分離。
3.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金屬粒子以平面靶材或弧面靶材為沉積源。
4.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金屬膜至少為一層。
5.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金屬粒子包括鉬、鋁、銅、氧化銦錫粒子中的至少一種。
6.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金屬膜的厚度為300-450nm。
7.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述柔性基板的材料為聚二甲基硅氧烷或聚亞酰胺中的一種。
8.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，卷繞到旋轉裝置上的所述柔性襯底的數量至少為一個，相鄰兩個柔性襯底之間存在易斷點。
9.如權利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金屬粒子通過電磁濺射法沉積到所述柔性基板的表面。
10.一種柔性基板，其特征在于，所述柔性基板通過如權利要求1-9任一項所述的柔性基板的制作方法制得。
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