[發明專利]半導體裝置以及控制系統在審
| 申請號: | 201810161044.0 | 申請日: | 2018-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN109524398A | 公開(公告)日: | 2019-03-26 |
| 發明(設計)人: | 淺原英敏;田中明廣;生野徹 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝;東芝電子元件及存儲裝置株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/088 | 分類號: | H01L27/088;H01L29/78 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 牛玉婷 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 開關元件 導電體 半導體裝置 半導體層 控制系統 | ||
實施方式的半導體裝置具備第1半導體層、第1開關元件、第2開關元件以及導電體。上述導電體的至少一部分設置在上述第1半導體層上。上述導電體在第1方向上位于上述第1開關元件以及上述第2開關元件之間。
關聯申請的交叉引用
本申請基于日本專利申請2017-179414號(申請日:2017年9月19日)主張優先權。本申請通過參照該基底申請而包含基底申請的全部內容。
技術領域
實施方式一般涉及半導體裝置以及控制系統。
背景技術
半導體裝置中,作為將電流路徑的方向進行切換的元件,有MOSFET(Metal OxideSemiconductor Field Effect Transistor:金屬氧化物半導體場效應晶體管)。將這樣的MOSFET通過使電極共用而在芯片上集成多個,并組裝到保護電路等電路內。如果將多個MOSFET集成化,則可能會導致芯片內的電流路徑變長、電阻值變高。
發明內容
實施方式提供一種電氣特性提高的半導體裝置以及控制系統。
實施方式的半導體裝置具備第1半導體層、第1開關元件、第2開關元件和導電體。所述第1半導體層的導電型為第1導電型。所述第1開關元件具有設置在所述第1半導體層上且分別具有第1控制電極的多個第1元件部、以及設置在所述多個第1元件部上的第1電極。所述第2開關元件具有設置在所述第1半導體層上且分別具有第2控制電極的多個第2元件部、以及設置在所述多個第2元件部上的第2電極。所述第2開關元件與所述第1開關元件在第1方向上排列配置。所述導電體的至少一部分設置在所述第1半導體層上。所述導電體在所述第1方向上位于所述第1開關元件以及所述第2開關元件之間。
附圖說明
圖1是表示實施方式的半導體裝置的俯視圖。
圖2是表示實施方式的半導體裝置的剖視圖。
圖3是表示實施方式的半導體裝置的連接方式的電路圖。
圖4是表示實施方式的半導體裝置的電流路徑的剖視圖。
具體實施方式
以下,參照附圖對本發明的各實施方式進行說明。
另外,附圖是示意性的或者是概念性的,各部分的厚度與寬度的關系、部分間的大小的比率等并不一定與現實的結構相同。此外,即使在表示相同部分的情況下,根據附圖也有將相互的尺寸或比率不同地表示的情況。
另外,在本申請說明書和各圖中,對于與已出現的圖中說明過的要素相同的要素賦予相同的標號,并適當省略詳細的說明。
(本實施方式)
圖1是表示本實施方式的半導體裝置的俯視圖。
圖2是圖1的A1-A2線的剖視圖。
另外,本說明書中,采用XYZ正交坐標系。將從漏極電極80朝向半導體層10的方向設為Z方向,將相對于Z方向垂直且相互正交的2個方向設為X方向及Y方向。
如圖1及圖2所示,在半導體裝置1設有開關元件1A以及開關元件1B。開關元件1A以及開關元件1B例如是MOSFET。開關元件1A以及開關元件1B以在X方向上相鄰的方式配置。例如,開關元件1A以及開關元件1B集成在一個芯片上。
在圖1所示的例中,半導體裝置1由兩個開關元件1A、1B構成,但也可以由三個以上的開關元件構成。例如,在開關元件1A以及開關元件1B內設有相同的要素。
以下,對開關元件1A、1B內的要素進行說明。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





