[發明專利]一種對比試塊在審
| 申請號： | 201810160031.1 | 申請日： | 2018-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN110196286A | 公開（公告）日： | 2019-09-03 |
| 發明（設計）人： | 漆松林;王旭;陳永楨;王文娟;郭青;陶楚雍 | 申請（專利權）人： | 漆松林 |
| 主分類號： | G01N29/30 | 分類號： | G01N29/30 |
| 代理公司： | 四川力久律師事務所 51221 | 代理人： | 熊曉果;劉童笛 |
| 地址： | 610091 四川省成都市青*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 對比試塊 鋪層 修補 人工缺陷 膠膜 待檢測區 檢測結果 人為因素 質量檢測 靈敏度 回波 嵌設 檢測 | ||
【權利要求書】：
1.一種對比試塊，用于模擬損傷修補后的待檢測區域，其特征在于，包括未修補區、鋪層區和膠膜，所述鋪層區包括嵌設于未修補區中的至少一個鋪層，膠膜設于鋪層區與未修補區之間；
所述對比試塊中設有人工缺陷。
2.根據權利要求1所述的對比試塊，其特征在于，鋪層區中包括至少兩個鋪層，所述鋪層呈階梯狀分布；
所述對比試塊上設有至少兩個人工缺陷，其中一個設于一個鋪層，另一個設于另一個鋪層。
3.根據權利要求1或2所述的對比試塊，其特征在于，所述未修補區中設有人工缺陷，所述未修補區中的人工缺陷與所述膠膜相鄰。
4.根據權利要求3所述的對比試塊，其特征在于，在所述鋪層區的周向方向上，所述未修補區中的人工缺陷與所述鋪層區中的人工缺陷錯開。
5.根據權利要求1所述的對比試塊，其特征在于，所述人工缺陷的尺寸設置為，設計標準中能夠接受的最小缺陷的尺寸。
6.根據權利要求1、2或5中任意一項所述的對比試塊，其特征在于，所述人工缺陷由高超聲衰減材料制成。
7.根據權利要求5所述的對比試塊，其特征在于，所述人工缺陷的材料包括聚四氟乙烯或鉛。
8.根據權利要求1、2或5中任意一項所述的對比試塊，其特征在于，所述人工缺陷由預埋于對比試塊中的，具有脫模劑涂層的金屬生成。
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