[發(fā)明專利]氣體導(dǎo)入機構(gòu)及熱處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810158626.3
• 申請日: 2018-02-26
• 公開（公告）號: CN108538748B
• 公開（公告）日: 2023-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 永田朋幸;岡部庸之
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發(fā)明提供一種氣體導(dǎo)入機構(gòu)及熱處理裝置，能夠防止氣體在歧管與噴射器的連接部分泄漏。一實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)具有：縱長的處理容器；噴射器，其沿著所述處理容器的內(nèi)周壁的縱向方向設(shè)置，并且被設(shè)為至少在所述處理容器的下部與所述內(nèi)周壁之間具有間隔；歧管，其從下方支承所述噴射器；推壓力產(chǎn)生構(gòu)件，其在所述噴射器的下部對所述噴射器施加從下方朝向上方的推壓力；以及限制構(gòu)件，其用于限制所述噴射器向上方移動。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種氣體導(dǎo)入機構(gòu)及熱處理裝置。

背景技術(shù)

目前，已知有一種這樣的基板處理裝置：在用于支承處理容器的下端的歧管安裝有直管形狀的噴射器，借助噴射器向處理容器內(nèi)供給氣體(參照例如專利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2015-185578號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

然而，在具有直管形狀的噴射器的基板處理裝置中，為了能夠容易地向歧管安裝噴射器，有時在歧管與噴射器的連接部分設(shè)有較小的間隙。在該情況下，在借助噴射器向處理容器內(nèi)導(dǎo)入氣體時，存在氣體從上述間隙向處理容器內(nèi)泄漏的隱患。

因此，本發(fā)明的一技術(shù)方案的目的在于提供一種能夠防止氣體在歧管與噴射器的連接部分處泄漏的氣體導(dǎo)入機構(gòu)。

用于解決問題的方案

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的一技術(shù)方案的氣體導(dǎo)入機構(gòu)具有：縱長的處理容器；噴射器，其沿著所述處理容器的內(nèi)周壁的縱向方向設(shè)置，并且被設(shè)為至少在所述處理容器的下部與所述內(nèi)周壁之間具有間隔；歧管，其從下方支承所述噴射器；推壓力產(chǎn)生構(gòu)件，其在所述噴射器的下部對所述噴射器施加從下方朝向上方的推壓力；以及限制構(gòu)件，其用于限制所述噴射器向上方移動。

發(fā)明的效果

采用公開的氣體導(dǎo)入機構(gòu)，能夠防止氣體在歧管與噴射器的連接部分泄漏。

附圖說明

圖1是第1實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)及熱處理裝置的一例的概略圖。

圖2是第1實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)的一例的概略圖(1)。

圖3是第1實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)的一例的概略圖(2)。

圖4是第1實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)的一例的概略圖(3)。

圖5是第2實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)的一例的概略圖(1)。

圖6是第2實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)的一例的概略圖(2)。

圖7是第2實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)的一例的概略圖(3)。

圖8是第2實施方式的氣體導(dǎo)入機構(gòu)的一例的概略圖(4)。

附圖標(biāo)記說明

10、處理容器；40、加熱單元；90、歧管；92、凹部；93、小徑部；94、大徑部；95、臺階部；96、限制部；97、嵌合孔；100、噴射器；103、插入部；104、凸緣部；130、限制構(gòu)件；140、焊接波紋管。

具體實施方式

以下，參照附圖說明用于實施本發(fā)明的方式。其中，在本說明書及附圖中，對實際上相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記，而省略重復(fù)的說明。

〔第1實施方式〕