[發明專利]旁通止回閥以及具有該旁通止回閥的文丘里裝置

有效

• 申請號: 201810151765.3
• 申請日: 2015-04-03
• 公開（公告）號: CN108361438B
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: A·尼德特;B·M·格雷琴
• 申請（專利權）人: 戴科知識產權控股有限責任公司
• 主分類號: F16K47/04
• 分類號: F16K47/04;F16K15/02
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 張臻賢;徐瑞紅

1.一種文丘里裝置，包括：

殼體，限定具有中心縱軸線的通道，其中所述通道包括第一錐形部和第二錐形部，所述第一錐形部在流體接合處與所述第二錐形部耦合，以與抽吸端口流體連通；限定旁通端口，所述旁通端口與位于所述第二錐形部下游的所述通道流體連通；并且限定旁通止回閥，所述旁通止回閥控制通過所述旁通端口的流體流動；

其中所述旁通止回閥包括：

內空腔，具有第一座和第二座，所述第一座限定閉合位置，并且所述第二座限定打開位置并且包括多個指形件，其中所述多個指形件繞所述旁通端口沿周向間隔開并且突出進入所述內空腔；

其中所述第二座具有位于中間區域的具有預定高度的相對的第一指形件，具有定位在所述中間區域的上游的第二中等高度指形件，并且具有定位在所述中間區域的下游的第三較短指形件，所述中間區域橫向于所述通道的中心縱軸線，其中所述第二中等高度指形件具有高于所述第三較短指形件的高度；以及

止回閥盤，位于所述內空腔內，所述止回閥盤能夠在處于閉合位置的平坦密封狀態與在處于打開位置的抵靠所述第二座安置而相對于所述中心縱軸線的成角度位置之間平移，由此限定所述止回閥盤的下游部比所述止回閥盤的上游部穿行更長的距離到達所述閉合位置。

2.如權利要求1所述的文丘里裝置，還包括第二止回閥，其控制流經所述抽吸端口的流體流動。

3.如權利要求1所述的文丘里裝置，其中所述多個指形件還包括高度在所述第二中等高度指形件和所述第三較短指形件之間的定位在中間區域的上游的第四高度指形件。

4.如權利要求1所述的文丘里裝置，其中所述第二中等高度指形件的高度是每個所述第一指形件高度的70％至90％。

5.如權利要求1所述的文丘里裝置，其中所述殼體包括延伸進入所述內空腔的銷，所述止回閥盤包括貫通其中的孔，并且所述殼體的所述銷被接納在所述止回閥盤的所述孔中，以使所述止回閥盤沿著所述銷平移。

6.如權利要求1所述的文丘里裝置，還包括布置在所述抽吸端口與旁通端口之間的所述通道的流體路徑中的第一消聲部件。

7.如權利要求6所述的文丘里裝置，其中所述第一消聲部件容納在雙腔室罐中，所述雙腔室罐形成第一腔室和第二腔室，所述第一腔室容納所述消聲部件，所述第二腔室圍繞所述第二錐形部的至少一部分，所述第二腔室在所述第一腔室的上游。

8.如權利要求6所述的文丘里裝置，還包括連接到進入所述旁通止回閥的入口端口上游的第二消聲部件。

9.如權利要求8所述的文丘里裝置，其中所述第二消聲部件布置在導管或殼體內，從而將所述第二消聲部件布置在與所述旁通止回閥流體連通的流體流路內。

10.如權利要求1所述的文丘里裝置，其中所述通道還包括在所述第二錐形部下游的輔助端口，定位在所述旁通端口的下方。