[發明專利]曝光設備

在審

• 申請號: 201810150964.2
• 申請日: 2018-02-13
• 公開（公告）號: CN108445718A
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 佛山尉達科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種曝光設備，包括曝光腔室、光源組件、投影組件、承載臺、固定支撐件、支撐框架；光源組件、投影組件和承載臺均設置于曝光腔室內；光源組件用于產生曝光光線；支撐框架的基端部連接固定支撐件，并且支撐框架的末端部連接光源組件；支撐框架包括第一、第二移動框架以及轉動構件；支撐框架包括第一活動部至第七活動部以及第一鎖定構件至第七鎖定構件，第一鎖定構件至第七鎖定構件分別用于將第一活動部至第七活動部鎖定；固定支撐件由三個支撐柱構成，三個支撐柱彼此間隔預定距離并平行布置，三個支撐柱通過聯接桿彼此連接，兩個支撐柱的聯接桿相互連接，聯接桿連接支撐柱。本發明能調整光源組件在曝光設備中的位置。

技術領域

本發明涉及曝光技術領域，特別涉及一種曝光設備。

背景技術

傳統的曝光設備一般包括曝光光源和投影鏡片，該曝光光源用于產生曝光光線，并將該曝光光線通過該投影鏡片照射待進行曝光處理的器件。

該曝光光源在曝光設備中的位置是固定的，即，傳統的曝光光源無法調整其在曝光設備中的位置，因此，傳統的曝光設備無法對待進行曝光處理的器件進行更優的曝光處理。

故，有必要提出一種新的技術方案，以解決上述技術問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種曝光設備，其能調整光源組件在曝光設備中的位置。

為解決上述問題，本發明的技術方案如下：

一種曝光設備，所述曝光設備用于對顯示器件或半導體器件進行曝光處理；所述曝光設備包括曝光腔室、光源組件、投影組件、承載臺、固定支撐件、支撐框架；所述光源組件、所述投影組件和所述承載臺均設置于所述曝光腔室內；所述光源組件用于產生曝光光線，并用于將所產生的所述曝光光線輸出至所述投影組件；所述承載臺用于承載待進行曝光處理的顯示器件或半導體器件；所述支撐框架的基端部連接固定支撐件，并且所述支撐框架的末端部連接所述光源組件；所述支撐框架包括第一移動框架、第二移動框架以及具有正交的第一樞軸、第二樞軸的轉動構件；所述支撐框架包括第一活動部至第七活動部以及第一鎖定構件至第七鎖定構件，所述第一鎖定構件至所述第七鎖定構件分別用于將所述第一活動部至所述第七活動部鎖定；所述固定支撐件由三個支撐柱構成，三個所述支撐柱彼此間隔預定距離并平行布置，三個所述支撐柱通過聯接桿彼此連接，兩個所述支撐柱的所述聯接桿相互連接，所述聯接桿連接所述支撐柱。

優選地，在所述支撐框架中，所述第一移動框架的基端部分連接到所述固定支撐件的一個所述支撐柱，所述第二移動框架的基端部分連接到所述第一移動框架的遠端部，所述轉動構件的基座與所述第二移動框架的前端部連接。

優選地，所述支撐框架包括第一臂體、第二臂體和第三臂體。

優選地，所述第一臂體和所述第二臂體均形成為矩形框架形狀。

優選地，所述第二移動框架設置有構造為平行連桿構件的所述第三臂體。

優選地，所述第三臂體由第一水平桿和第二水平桿連接。

優選地，所述第一水平桿、所述第二水平桿以及設置在所述第一水平桿、所述第二水平桿的端部之間的第一垂直桿、第二垂直桿形成為平行四邊形形狀。

優選地，所述支撐框架還包括活動軸，所述活動軸構成用于使所述第一臂體在水平方向上樞轉的所述第一活動部。

優選地，所述第一鎖定構件設置于所述活動軸中。

優選地，所述支撐框架的所述第一活動部至所述第七活動部用于調整所述光源組件的位置和/或姿勢。

相對現有技術，本發明能調整光源組件在曝光設備中的位置，從而能對待進行曝光處理的器件進行更優的曝光處理。

附圖說明

圖1為本發明的曝光設備的示意圖。