[發明專利]真空處理裝置和維護裝置

有效

• 申請號: 201810150376.9
• 申請日: 2018-02-13
• 公開（公告）號: CN108447760B
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 上田雄大;廣瀨潤
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種真空處理裝置，其特征在于，

該真空處理裝置具有：

消耗零件，其由于在基板的加工中所實施的處理而消耗；

處理容器，在其內部配置有所述消耗零件，設有：第1閘門，其用于所述基板的輸入輸出；第2閘門，用于更換消耗零件的維護裝置能夠相對于該第2閘門拆裝。

2.根據權利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，

所述第2閘門相對于載置所述基板載置的臺設于第1閘門的相反側。

3.一種維護裝置，其特征在于，

該維護裝置具有：

殼體，其形成有與真空處理裝置的第2閘門相對應的尺寸的開口部，該殼體設為所述開口部相對于所述第2閘門保持氣密性、同時能夠將所述開口部安裝于所述第2閘門，上述真空處理裝置在處理容器處設有用于基板的輸入輸出的第1閘門和與第1閘門不同的所述第2閘門；

維護機構，其收容于所述殼體的內部，經由所述開口部進行所述處理容器內的消耗零件的拆卸、消耗零件向所述處理容器內的安裝、所述處理容器內的清掃中的至少1者。

4.根據權利要求3所述的維護裝置，其特征在于，

所述維護機構具有：

臂；

單元，其相對于所述臂能夠拆裝，進行所述處理容器內的消耗零件的拆卸、消耗零件向所述處理容器內的安裝、所述處理容器內的清掃中的任一者。

5.根據權利要求4所述的維護裝置，其特征在于，

在所述處理容器內進行消耗零件拆卸的單元在與消耗零件接觸的面具有粘合層。

6.根據權利要求4或5所述的維護裝置，其特征在于，

所述單元能夠相對于所述殼體單獨地拆裝。

7.根據權利要求4或5所述的維護裝置，其特征在于，

所述殼體是將包括收容有所述單元中的至少一者的框架在內的多個框架接合而構成的。

8.根據權利要求4所述的維護裝置，其特征在于，

還具有設為能夠在所述殼體內移動的臺。

9.根據權利要求8所述的維護裝置，其特征在于，

還具有轉接器拆卸單元，該轉接器拆卸單元用于拆卸將所述真空處理裝置的所述第2閘門封閉的轉接器。

10.根據權利要求9所述的維護裝置，其特征在于，

所述轉接器拆卸單元設為相對于所述臺能夠拆裝。

11.根據權利要求8所述的維護裝置，其特征在于，

所述臂設為相對于所述臺能夠拆裝。