[發明專利]一種損傷監測裝置及系統

在審

• 申請號: 201810149793.1
• 申請日: 2018-02-13
• 公開（公告）號: CN108362771A
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: 白玉庭
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G01N27/90
• 分類號: G01N27/90;G01N29/09
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

本發明公開了一種損傷監測裝置及系統，包括：監測模塊、信號處理模塊和顯示模塊；其中，監測模塊用于在電信號的控制下對待監測掩膜版進行非接觸式監測，并將監測到的物理參數發送給信號處理模塊；信號處理模塊用于接收監測模塊發送的物理參數，并根據物理參數的變化判斷待監測掩膜版是否出現損傷，得出處理后的數據和結果；顯示模塊用于顯示信號處理模塊處理后的數據及監測結果。通過監測模塊、信號處理模塊和顯示模塊的設置，能夠對掩膜版進行實時的監測，并對監測數據進行處理將處理后的數據及結果顯示給相關監測人員，以便于及時對該損傷處進行處理，避免出現宕機影響生產進程。

技術領域

本發明涉及監測裝置領域，特別涉及一種損傷監測裝置及系統。

背景技術

在OLED生產的過程中，隨著玻璃基板流過數量的增加，掩膜版產生損傷的幾率也會相應的增加，掩膜版產生損傷不僅會影響到產品的質量，嚴重的還會產生宕機，影響生產進程。

具體地，在對量產玻璃進行蒸鍍時，由于受到溫度或其他因素的影響，使得掩膜版發生形變、撕裂、凸起或者與量產的基板粘貼在一起，上述情況如未及時處理會造成基板損傷或掩膜版嚴重撕裂，不僅會降低產品的良率，嚴重時更會影響到整個生產的進程，給各項資源帶來不必要的消耗。

因此，在工藝制備過程中如何及時發現損傷是本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。

發明內容

本發明實施例提供了一種損傷監測裝置，用以解決現有技術中由于未能及時處理掩膜版上的損傷造成宕機，而影響產品良率和制備進程的技術問題。

因此，本發明實施例提供了一種損傷監測裝置，包括：監測模塊、信號處理模塊和顯示模塊；其中，

所述監測模塊用于在電信號的控制下對待監測掩膜版進行非接觸式監測，并將監測到的物理參數發送給所述信號處理模塊；

所述信號處理模塊用于接收所述監測模塊發送的所述物理參數，并根據所述物理參數的變化判斷所述待監測掩膜版是否出現損傷，得出處理后的數據和結果；

所述顯示模塊用于顯示所述信號處理模塊處理后的數據及監測結果。

在一種可能的實現方式中，本發明實施例提供的上述損傷監測裝置，所述監測模塊包括：監測單元和測量轉化單元；

所述監測單元用于向所述待監測掩膜版發射電磁波或超聲波，當所述待監測掩膜版出現損傷時所述監測單元的阻抗發生變化；

所述測量轉化單元用于將所述監測單元的阻抗發生的變化轉化電壓參數的變化，并將所述電壓參數的數據發送給所述信號處理模塊。

在一種可能的實現方式中，本發明實施例提供的上述損傷監測裝置，所述監測單元設置于所述待監測掩膜版的待監測面的正上方的預設距離處。

在一種可能的實現方式中，本發明實施例提供的上述損傷監測裝置，在平行于所述待監測掩膜版的平面上所述待監測單元按照預設規律移動。

在一種可能的實現方式中，本發明實施例提供的上述損傷監測裝置，所述監測單元包括傳感線圈或脈沖反射式超聲波傳感器。

在一種可能的實現方式中，本發明實施例提供的上述損傷監測裝置，所述監測單元與所述待監測掩膜版之間的距離為15cm～25cm。

在一種可能的實現方式中，本發明實施例提供的上述損傷監測裝置，所述信號處理模塊包括處理器。

在一種可能的實現方式中，本發明實施例提供的上述損傷監測裝置，還包括報警模塊；

所述信號處理模塊還用于在處理后的數據超出預設閾值時向所述報警模塊發送控制信號；

所述報警模塊用于接收到所述信號處理模塊發送的所述控制信號后報警。