[發(fā)明專利]光刻設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810146055.1 | 申請日: | 2013-04-05 |
| 公開(公告)號: | CN108535964B | 公開(公告)日: | 2020-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | H·巴特勒 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 王茂華;呂世磊 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光刻 設(shè)備 | ||
一種光刻設(shè)備包括被構(gòu)造為支撐圖案形成裝置(5)的圖案形成裝置支撐件,圖案形成裝置能夠在輻射束的截面中施加圖案以形成圖案化的輻射束,圖案形成裝置支撐件包括相對于物體可移動地設(shè)置的可移動結(jié)構(gòu)(3),相對于可移動結(jié)構(gòu)可移動地設(shè)置并且被配置用于保持圖案形成裝置的圖案形成裝置保持器(4),配置用于相對于物體移動可移動結(jié)構(gòu)(3)的致動器(8),以及被配置用于相對于可移動結(jié)構(gòu)(3)移動圖案形成裝置保持器(4)的超短沖程致動器(9);被構(gòu)造為保持襯底(W)的襯底支撐件(WT);以及被配置用于將圖案化的輻射束投影至襯底的目標(biāo)部分(C)之上的投影系統(tǒng)(PS),用于測量作為襯底相對于參考物體的所需位置(SPWS)與襯底相對于參考物體的實際位置之間的差的襯底位置誤差(eWS)的位置測量系統(tǒng)(IF),以及配置用于至少部分地基于襯底位置誤差(eWS)而移動致動器(8)和超短沖程致動器(9)的控制器(100、200)。
本申請是國際申請日為2013年4月5日、于2014年12月8日進(jìn)入中國國家階段的、申請?zhí)枮?01380030257.5、發(fā)明名稱為“光刻設(shè)備”的中國發(fā)明專利申請的分案申請。
本申請要求享有2012年4月27日提交的第61/639,545號美國臨時申請的優(yōu)先權(quán),通過整體引用將其并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光刻設(shè)備以及一種器件制造方法。
背景技術(shù)
光刻設(shè)備是施加所需圖案至襯底之上(通常至襯底的目標(biāo)部分之上)的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用于例如集成電路(IC)的制造中。在該情形中,備選地稱作掩模或掩模版的圖案形成裝置可以用于產(chǎn)生將要形成在IC的各個層上的電路圖案。該圖案可以轉(zhuǎn)移至襯底(例如硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括一個或數(shù)個裸片的一部分)之上。圖案的轉(zhuǎn)移通常經(jīng)由成像至設(shè)置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)的層之上。通常,單個襯底將包含相繼圖案化的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。已知的光刻設(shè)備包括所謂的步進(jìn)機(jī),其中通過將整個圖案一次曝光至目標(biāo)部分之上而輻射每個目標(biāo)部分,以及所謂的掃描機(jī),其中在給定方向(“掃描”方向)上通過輻射束掃描圖案而同時平行于或反平行于該方向掃描襯底來輻射每個目標(biāo)部分。也可能通過壓印圖案至襯底之上而將圖案從圖案形成裝置轉(zhuǎn)移至襯底。
已經(jīng)提出了在光刻投影設(shè)備中將襯底浸入具有相對高折射率的液體(例如水)中,以便于填充投影系統(tǒng)的最終元件與襯底之間的空間。然而,另外的流體可以是合適的,特別是潤濕流體,不可壓縮的流體和/或具有比空氣更高折射率的流體,希望的是比水更高的折射率。排除了氣體的流體是特別希望得到的。該要點在于使得能夠成像更細(xì)微特征,因為曝光輻射將在液體中具有更短波長。(液體的效應(yīng)也可以視作增大了系統(tǒng)的有效數(shù)值孔徑(NA)并且也增大了焦點的深度。)已經(jīng)提出了其他沉浸液體,包括其中懸浮有固體顆粒(例如石英)的水,或者具有納米顆粒懸浮物的液體(例如具有至多10nm的最大尺寸的顆粒)。懸浮顆粒可以或者可以不與它們懸浮在其中的液體具有類似或相同的折射率。可能合適的其他液體包括烴,諸如芳香烴、氟代烴、和/或水溶液。
在光刻設(shè)備中,使用了可移動支撐件以保持并定位諸如襯底或圖案形成裝置之類的可交換物體。在掃描類型光刻設(shè)備中,可移動支撐件用于支撐襯底以便于形成掃描運動。圖案形成裝置也可以支撐在可移動支撐件上。可移動支撐件能夠以高精度定位襯底或圖案形成裝置。
為了獲得高精度,由可相對于諸如框架之類的參考物體移動的長沖程部件以及相對于長沖程部件可移動地設(shè)置的短沖程部件組裝已知的可移動支撐件。短沖程部件被配置為支撐可交換物體。長沖程部件相對于參考物體的最大沖程相對較大,而短沖程部件相對于長沖程部件的沖程相對較小。
提供長沖程致動器以相對于參考物體致動長沖程部件。提供短沖程致動器以相對于長沖程部件致動短沖程部件。該長沖程致動器例如是線性電動機(jī),并且可以不是非常精確的。長沖程致動器的主要任務(wù)是將短沖程致動器的定子部件保持在運動部件附近。設(shè)計短沖程致動器以采用高精度定位短沖程部件。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
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