[發明專利]光刻設備

有效

• 申請號: 201810146055.1
• 申請日: 2013-04-05
• 公開（公告）號: CN108535964B
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: H·巴特勒
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;呂世磊

1.一種光刻設備，包括：

圖案形成裝置支撐件，所述圖案形成裝置支撐件用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的截面中向所述輻射束施加圖案以形成圖案化的輻射束，所述圖案形成裝置支撐件具有：相對于參考物體可移動地設置的可移動結構；相對于所述可移動結構可移動地設置的用于保持所述圖案形成裝置的圖案形成裝置保持器；用于相對于所述參考物體移動所述可移動結構的致動器；以及用于相對于所述可移動結構移動所述圖案形成裝置保持器的超短沖程致動器，其中所述超短沖程致動器的工作范圍小于所述致動器的工作范圍；

用于保持襯底的襯底支撐件；

投影系統，所述投影系統用于將所述圖案化的輻射束投影至所述襯底的目標部分上；

位置測量系統，所述位置測量系統用于測量所述襯底相對于所述參考物體的實際位置并且確定襯底位置誤差，所述襯底位置誤差是所述襯底相對于參考物體的所需位置與所述襯底相對于所述參考物體的實際位置之間的差；以及

控制器，所述控制器用于至少部分地基于所述襯底位置誤差而移動所述致動器和所述超短沖程致動器，

其中，所述位置測量系統附加地測量所述可移動結構相對于所述參考物體的實際位置并且確定可移動結構位置誤差，所述可移動結構位置誤差是所述可移動結構相對于所述參考物體的所需位置與所述可移動結構相對于所述參考物體的實際位置之間的差，并且

其中所述控制器附加地至少部分地基于所述可移動結構位置誤差而移動所述超短沖程致動器。

2.根據權利要求1所述的光刻設備，其中，所述控制器附加地能夠至少部分地基于所述可移動結構位置誤差而移動所述致動器。

3.根據權利要求1或2所述的光刻設備，其中，所述控制器能夠至少部分地基于具有在預定幅度之下的頻率的所述襯底位置誤差和/或所述可移動結構位置誤差的分量而移動所述致動器，并且至少部分地基于具有在所述預定幅度之上的頻率的所述襯底位置誤差和/或所述可移動結構位置誤差的分量而移動所述超短沖程致動器。

4.一種光刻設備，包括：

圖案形成裝置支撐件，所述圖案形成裝置用于支撐件支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的截面中向所述輻射束施加圖案以形成圖案化的輻射束，所述圖案形成裝置支撐件具有：相對于參考物體可移動地設置的可移動結構；相對于所述可移動結構可移動地設置的用于保持所述圖案形成裝置的圖案形成裝置保持器；用于相對于所述參考物體移動所述可移動結構的致動器；以及用于相對于所述可移動結構移動所述圖案形成裝置保持器的超短沖程致動器，其中所述超短沖程致動器的工作范圍小于所述致動器的工作范圍；

用于保持襯底的襯底支撐件；

投影系統，所述投影系統用于將所述圖案化的輻射束投影至所述襯底的目標部分上；

位置測量系統，所述位置測量系統用于測量所述襯底相對于所述參考物體的實際位置并且確定襯底位置誤差，所述襯底位置誤差是所述襯底相對于參考物體的所需位置與所述襯底相對于所述參考物體的實際位置之間的差；以及

控制器，所述控制器用于僅基于所述襯底位置誤差移動所述超短沖程致動器，或者僅基于所述襯底位置誤差以及所述圖案形成裝置保持器相對于所述可移動結構的測量位置移動所述超短沖程致動器，

其中，所述位置測量系統附加地能夠測量所述可移動結構相對于所述參考物體的實際位置并且確定可移動結構位置誤差，所述可移動結構位置誤差是所述可移動結構相對于所述參考物體的所需位置與所述可移動結構相對于所述參考物體的實際位置之間的差，并且

其中所述控制器附加地能夠至少部分地基于所述可移動結構位置誤差而移動所述超短沖程致動器。

5.根據權利要求4所述的光刻設備，其中，所述控制器能夠基于所述襯底位置誤差和/或所述可移動結構位置誤差并且以反饋方式基于所述圖案形成裝置保持器相對于所述可移動結構的所述測量位置移動所述超短沖程致動器。

6.根據權利要求4或5所述的光刻設備，其中，所述控制器包括用于基于所述襯底位置誤差以開環方式移動所述超短沖程致動器的開環電路。

7.根據權利要求6所述的光刻設備，其中，所述開環電路包括乘法器，所述乘法器用于將所述襯底位置誤差的乘法因子設置為在1和0.2之間。