[發明專利]圖像傳感裝置的形成方法在審

申請號：	201810141602.7	申請日：	2018-02-11
公開（公告）號：	CN109841639A	公開（公告）日：	2019-06-04
發明（設計）人：	鄭允瑋;周俊豪;李國政;黃薰瑩	申請（專利權）人：	臺灣積體電路制造股份有限公司
主分類號：	H01L27/146	分類號：	H01L27/146
代理公司：	隆天知識產權代理有限公司 72003	代理人：	張福根;馮志云
地址：	中國臺***	國省代碼：	中國臺灣;71
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摘要：
搜索關鍵詞：	源極/漏極基板柵極結構圖像傳感裝置光傳感結構光接收區結構形成裝置區晶體管背面電性連接光阻擋層
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【權利要求書】：

1.一種圖像傳感裝置的形成方法，包括：

提供一基板，其中該基板具有一正面與一背面，且該基板具有一光接收區與一裝置區；

分別形成一第一晶體管與一第一源極/漏極結構于該光接收區與該裝置區中，其中該第一晶體管包括一第一柵極結構、一光傳感結構、與一第二源極/漏極結構，該第一柵極結構位于該正面上，該光傳感結構與該第二源極/漏極結構形成于該基板中且分別位于該第一柵極結構的兩側，該第一源極/漏極結構形成于該基板中，且該第一源極/漏極結構電性連接至該第二源極/漏極結構；以及

形成一光阻擋層于該背面上，其中該光阻擋層覆蓋整個該第一源極/漏極結構。

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