[發明專利]雙向加熱烹調器

在審

• 申請號: 201810131168.4
• 申請日: 2018-02-09
• 公開（公告）號: CN108245034A
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 李琎熙
• 申請（專利權）人: 嘉易烤株式會社
• 主分類號: A47J37/06
• 分類號: A47J37/06;A47J37/01
• 代理公司: 北京匯信合知識產權代理有限公司 11335
• 代理人: 翟國明

1.一種雙向加熱烹調器，其特征在于，包括：

一底架，在其內部設有所定空間；

一內部盒，其沿著所述底架上所設所定空間的內周，結合在所述底架，并設有所定區域開放而成的滴油口；

一下方熱源，其結合在所述底架并位于所述內部盒的上側；

一烹調盤，其安裝在所述下方熱源上；以及

一上方熱源，為朝所述烹調盤側照射熱源，通過支架與所述底架相連。

2.根據權利要求1所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

所述內部盒為布置所述下方熱源而設有所定空間，并為使所述烹調盤上產生的油低落，而在下面設有所定區域的所述滴油口。

3.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

所述下方熱源為朝所述烹調盤下方供應熱源而由所定長度的加熱源而成，

所述加熱源一端結合在所述底架，而所述加熱源的另一端則在所述烹調盤下側朝所述底架上所結合的所述加熱源一端的相反方向延伸而成。

4.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

設在所述內部盒上的所定空間的一側，設有用于將所述加熱源的一端彎曲延伸而插進所述底架內部的結合孔，

設在所述內部盒上的所定空間的另一側，設有用于支撐所述加熱源的加熱源支撐件。

5.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

所述烹調盤以所述烹調盤的一個地點為準，朝兩側所定角度傾斜而成，從而所述烹調盤底面與所述內部盒相隔所定間隔的狀態下，所述烹調盤放置在所述下方熱源上。

6.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

所述烹調盤以平板形狀而成，從而所述烹調盤底面與所述內部盒相隔所定間隔的狀態下，所述烹調盤放置在所述下方熱源上。

7.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

在所述內部盒上為使所述下方熱源的熱源引導到所述烹調盤底面，沿著所述滴油口開口的所定區域周圍，設有所定高度的熱源引導件。

8.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

在所述底架上端一側設有熱源供應傳感器，當所述烹調盤放在所述下方熱源上時，維持所述上方熱源及所述下方熱源能夠供應熱源的預備狀態。

9.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

所述烹調盤為緊貼在所述加熱源進行安裝，在其底面設有用于插入安裝所述加熱源的所定長度的加熱源導向槽。

10.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，還包括用于收集從所述烹調盤上低落的油的油槽。

11.根據權利要求1或2中任意一項所述的雙向加熱烹調器，其特征在于，

所述內部盒沿著其周圍朝下方設有段差，在段差盡端設有用于布置所述下方熱源的凹陷空間。