[發明專利]位置檢測裝置有效
| 申請號: | 201810126879.2 | 申請日: | 2015-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN108180836B | 公開(公告)日: | 2021-06-15 |
| 發明(設計)人: | 佐藤浩司 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G01B11/00 | 分類號: | G01B11/00;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293 | 代理人: | 遲軍;李艷麗 |
| 地址: | 日本東京都*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 位置 檢測 裝置 | ||
本發明提供一種位置檢測裝置。該位置檢測裝置包括:檢測單元,其被構造為對由包括在第一方向上排列的圖案的第一衍射光柵與包括在所述第一方向上排列的圖案的第二衍射光柵之間的交疊引起的莫爾條紋進行檢測,以及處理單元,其被構造為基于所述莫爾條紋獲得所述第一衍射光柵與所述第二衍射光柵的相對位置,其中,所述第一衍射光柵和所述第二衍射光柵中的至少一個光柵中包括的圖案的端部圖案在所述第一方向上的寬度,小于所述至少一個衍射光柵的剩余圖案在所述第一方向上的寬度。
本申請是申請日為2015年6月26日、申請號為201510369385.3、發明名稱為“位置檢測裝置、位置檢測方法、壓印裝置及物品的制造方法”的發明專利申請的分案申請。
技術領域
本發明涉及位置檢測裝置、位置檢測方法、壓印裝置及物品的制造方法。
背景技術
壓印技術是能夠形成納米級精細圖案的技術,并且被提出作為針對半導體設備和磁存儲介質的量產納米光刻技術中的一種。使用壓印技術的壓印裝置,在形成有圖案的模具與樹脂接觸的狀態下,使基板上的樹脂(壓印材料)固化,然后使模具從固化的樹脂剝離,從而在基板上形成圖案。壓印裝置一般使用通過利用諸如紫外光等的光照射樹脂而使基板上的樹脂固化的光固化方法,作為樹脂固化方法。
當使模具與基板上的樹脂接觸時,壓印裝置需要精確地將模具與基板對準。例如,作為針對模具和基板的對準方案,使用晶片間(die-by-die)對準方案。晶片間對準方案是通過檢測在基板上的各個拍攝區域上形成的標志與模具上的相應標志來進行對準的方案。在美國特許第7,292,326號說明書以及日本特開2013-030757號公報中提出了這種與模具和基板之間的對準相關聯的技術。
美國特許第7,292,326號說明書提出了一種壓印裝置,該壓印裝置包括檢測用于模具與基板之間對準的標志的標志檢測機構。根據美國特許第7,292,326號說明書,模具和基板分別配設有衍射光柵,作為用于模具與基板之間的對準的標志。在模具側的衍射光柵是在測量方向上具有周期的衍射光柵。在基板側的衍射光柵是在測量方向和與測量方向垂直的方向(非測量方向)均具有周期的、棋盤狀圖案的衍射光柵。標志檢測機構對基板側的衍射光柵與模具側的衍射光柵之間的交疊引起的莫爾條紋進行檢測。標志檢測機構包括照明衍射光柵的照明光學系統和檢測來自衍射光柵的衍射光的檢測光學系統。以從與模具和基板垂直的方向向非測量方向傾斜,來布置兩個系統。也就是說,照明光學系統被構造為從非測量方向對衍射光柵進行斜入射照明。斜入射到衍射光柵的光被基板側的衍射光柵在非測量方向上衍射,并且被檢測光學系統檢測。檢測光學系統被布置為,在非測量方向上,僅檢測除0階光以外的單衍射光束。此外,日本特開2013-030757號公報提出了如下技術:在照明光學系統的光瞳面上形成多個極,并且針對多個方向測量模具與基板之間的相對位置。
然而,根據現有技術,由模具側的衍射光柵和基板側的衍射光柵的端部(各個衍射光柵的圖案的兩端)生成強的衍射光或散射光,他們的影響被反映在通過標志檢測機構獲得的檢測信號中,從而導致發生“欺騙”(誤差)。結果,模具與基板之間的對準精度(交疊精度)劣化,從而導致圖案轉印失敗(產品瑕疵)。
發明內容
本發明提供一種在對引起莫爾條紋的兩個衍射光柵的相對位置進行檢測方面有利的技術。
根據本發明的第一方面,提供一種位置檢測裝置,該位置檢測裝置包括:檢測單元,其被構造為對由包括在第一方向上排列的圖案的第一衍射光柵與包括在所述第一方向上排列的圖案的第二衍射光柵之間的交疊引起的莫爾條紋進行檢測;以及處理單元,其被構造為基于所述莫爾條紋獲得所述第一衍射光柵與所述第二衍射光柵的相對位置,其中,所述第一衍射光柵和所述第二衍射光柵中的至少一個衍射光柵中包括的圖案的端部圖案在所述第一方向上的寬度,小于所述至少一個衍射光柵的剩余圖案在所述第一方向上的寬度。
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