[發明專利]光電流掃描系統

有效

• 申請號: 201810123474.3
• 申請日: 2018-02-07
• 公開（公告）號: CN110118725B
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 張科;魏洋;范守善
• 申請（專利權）人: 清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光電流掃描系統，該光電流掃描系統為一共軸系統，包括一激光發生裝置、一聚焦裝置、一位移調整裝置、一偏壓供給裝置及一測量裝置；所述激光發生裝置用于發射激光，所述聚焦裝置用于將激光聚焦到所述位移調整裝置中待測樣品表面；所述位移調整裝置用于調整所述待測樣品的位置，使激光照射到待測樣品表面的不同部位；所述偏壓供給裝置用于向所述待測樣品提供電壓；所述測量裝置用于測量流過所述待測樣品的電流信號，該光電流掃描系統用于掃描尺寸為微米級的待測樣品，該光電流掃描系統進一步包括一載體、一源極、一漏極和一柵極，該載體為一包覆二氧化硅層的硅基底，待測樣品設置在該二氧化硅層上，該源極和漏極從所述待測樣品上分別引出，該柵極設置在硅基板上。

2.如權利要求1所述的光電流掃描系統，其特征在于，所述聚焦裝置包括一物鏡，該物鏡對激光光束聚焦，使照射到待測樣品表面的激光光斑直徑為1微米至2微米。

3.如權利要求1所述的光電流掃描系統，其特征在于，所述位移調整裝置包括一載物臺和一位移臺，該位移臺固定在所述載物臺，所述待測樣品設置于所述位移臺。

4.如權利要求3所述的光電流掃描系統，其特征在于，所述載物臺用于對所述待測樣品的位置進行粗調，所述位移臺用于對所述待測樣品的位置進行微調。

5.如權利要求1所述的光電流掃描系統，其特征在于，所述偏壓供給裝置和測量裝置集成在同一個源表內，該源表用于向所述待測樣品提供電壓，同時測量所述待測樣品的電流。

6.如權利要求1所述的光電流掃描系統，其特征在于，所述偏壓供給裝置為一源表，用于向所述待測樣品提供偏壓；所述測量裝置包括一電流前置放大器和一鎖相放大器，用于測量所述待測樣品的電流。

7.如權利要求1所述的光電流掃描系統，其特征在于，進一步包括一保護裝置，該保護裝置包括一收納盒和一屏蔽筒，所述位移調整裝置固定在所述收納盒內，所述收納盒用于保護所述位移調整裝置和屏蔽外界電磁干擾；所述屏蔽筒設置于所述收納盒，用于屏蔽所述聚焦裝置和收納盒之間的電磁干擾。

8.如權利要求7所述的光電流掃描系統，其特征在于，所述收納盒包括一可拆卸上蓋，該上蓋具有一通孔；所述屏蔽筒包括一環形片和一套筒，所述環形片設置于所述收納盒上蓋，所述環形片具有一開孔，所述套筒設置于所述環形片。

9.如權利要求8所述的光電流掃描系統，其特征在于，所述套筒包括第一空心圓柱和第二空心圓柱，該第二空心圓柱的外徑小于所述第一空心圓柱的外徑，在所述套筒的外表面形成一凸臺，所述第二空心圓柱的外徑小于所述環形片的開孔直徑，所述第一空心圓柱的外徑大于所述環形片的開孔直徑，所述第二空心圓柱位于所述環形片的開孔內。

10.一種采用權利要求1-9中任一項光電流掃描系統測量光電流的方法，包括以下步驟：

所述激光發生裝置發射激光；

激光通過所述聚焦裝置聚焦到待測樣品表面；

所述偏壓供給裝置給所述待測樣品提供電壓；

所述位移調整裝置調整所述待測樣品移動，使激光照射到待測樣品表面的不同位置；同時所述測量裝置測量所述待測樣品的電流信號。