[發明專利]光電流掃描系統

有效

• 申請號: 201810123474.3
• 申請日: 2018-02-07
• 公開（公告）號: CN110118725B
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 張科;魏洋;范守善
• 申請（專利權）人: 清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及一種光電流掃描系統，包括一激光發生裝置、一聚焦裝置、一位移調整裝置、一偏壓供給裝置及一測量裝置；所述激光發生裝置用于發射激光，所述聚焦裝置用于將激光聚焦到所述位移調整裝置中待測樣品表面；所述位移調整裝置用于驅動所述待測樣品，使激光照射到待測樣品表面的不同部位；所述偏壓供給裝置用于向所述待測樣品提供電壓；所述測量裝置用于測量流過所述待測樣品的電流信號。

技術領域

本發明涉及一種光電流掃描系統。

背景技術

現有技術中，常常利用振鏡系統來實現掃描，將兩片掃描鏡相對設置成具有一定角度，激光依次通過兩片掃描鏡照射到待測工件上。在掃描過程中，通過分別控制兩片掃描鏡的方向，從而改變激光照射到待測工件上的位置，進而實現了對待測工件的掃描。

然而，上述振鏡系統在工作過程中保持待測工件不動，僅通過改變激光光路來實現掃描，屬于離軸系統，因此，照射到待測工件的光斑較大，從而影響系統的掃描精度。

發明內容

有鑒于此，確有必要提供一種掃描精度較高的光電流掃描系統。

一種光電流掃描系統，包括一激光發生裝置、一聚焦裝置、一位移調整裝置、一偏壓供給裝置及一測量裝置；所述激光發生裝置用于發射激光，所述聚焦裝置用于將激光聚焦到所述位移調整裝置中待測樣品表面；所述位移調整裝置用于驅動所述待測樣品，使激光照射到待測樣品表面的不同部位；所述偏壓供給裝置用于向所述待測樣品提供電壓；所述測量裝置用于測量流過所述待測樣品的電流信號。

相對于現有技術，本發明提供的光電流掃描系統中保持激光光束不動，通過改變待測樣品的位置來實現掃描，該光電流掃描系統為一共軸系統，提高了光電流掃描系統的掃描精度。

附圖說明

圖1為本發明第一實施例提供的光電流掃描系統的結構示意圖。

圖2為圖1所提供的光電流掃描系統中屏蔽筒結構的剖面示意圖。

圖3為本發明第二實施例提供的光電流掃描系統的結構示意圖。

主要元件符號說明

具體實施方式

以下將結合附圖及具體實施例，對本發明提供的光電流掃描系統作進一步詳細說明。

請參閱圖1，本發明實施例提供一種光電流掃描系統10，包括一激光發生裝置11、一聚焦裝置12、一位移調整裝置13、一偏壓供給裝置15、一測量裝置16、一保護裝置14及一可視裝置(圖中未示)。所述激光發生裝置 11用于發射激光，激光通過所述聚焦裝置12聚焦到所述位移調整裝置13 中待測樣品表面；所述位移調整裝置13用于調整所述待測樣品的位置，使激光聚焦到待測樣品表面的不同部位；所述偏壓供給裝置15用于向所述待測樣品提供電壓；所述測量裝置16用于測量流過所述待測樣品的電流信號。

所述激光發生裝置11的結構不限，只要能夠發出激光即可。本實施例中，所述激光發生裝置11包括一激光器110、一安裝座111和一激光控制器 112。所述激光器110設置在所述安裝座111上，所述激光控制器112與所述安裝座111配套使用，所述激光控制器112控制所述激光器110中的溫度和輸出激光的功率。所述激光器110種類不限，所述激光器的規格可選波長為405nm、功率為10mW；波長為520nm、功率為15mW或波長為635nm、功率為8mW等。本實施例中，所述激光器110為二極管激光器，所述安裝座111型號為LDM9LP，所述控制器112型號為ITC4001。

所述激光發生裝置11通過一光纖將激光引入所述聚焦裝置12中。所述光纖的一端與激光器110連接，另一端連接到所述聚焦裝置12。優選的，所述光纖為單模光纖，通過該單模光纖輸入到聚焦裝置12的激光照射到待測樣品表面形成較小光斑。該光斑的直徑為1微米～2微米。所述單模光纖與對應波長的激光器配套使用。