[發(fā)明專利]溶液回收裝置及加工設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810122603.7 | 申請日: | 2018-02-07 |
| 公開(公告)號: | CN108267937A | 公開(公告)日: | 2018-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂良 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/30 | 分類號: | G03F7/30 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 消泡 溶液回收裝置 儲液容器 第二腔室 第一腔室 加工設(shè)備 隔板 輸出口 輸入口 側(cè)壁 連通 貫通 隔板設(shè) 潔凈度 分隔 良率 阻擋 加工 | ||
1.一種溶液回收裝置,其特征在于,包括儲液容器及至少一個消泡結(jié)構(gòu),每個消泡結(jié)構(gòu)包括消泡容器及隔板,所述隔板設(shè)于所述消泡容器內(nèi)進而將所述消泡容器分隔成相互連通的第一腔室及第二腔室,所述第一腔室的側(cè)壁貫通開設(shè)輸入口,所述第二腔室的側(cè)壁貫通開設(shè)輸出口,每個消泡容器的輸出口與所述儲液容器連通,所述隔板用于阻擋所述第一腔室中的泡沫進入所述第二腔室。
2.如權(quán)利要求1所述的溶液回收裝置,其特征在于,所述第一腔室的側(cè)壁還間隔所述輸入口開設(shè)排出口,所述溶液回收裝置還包括排污管,所述第一腔室通過所述排出口與所述排污管連通,用于將所述泡沫從所述第一腔室排出至所述排污管。
3.如權(quán)利要求2所述的溶液回收裝置,其特征在于,所述排污管與所述儲液容器連通。
4.如權(quán)利要求1所述的溶液回收裝置,其特征在于,所述消泡容器包括依次連接設(shè)置的頂板、第一側(cè)板、底板及第二側(cè)板,所述頂板與所述底板相對設(shè)置,所述第一側(cè)板與所述第二側(cè)板相對設(shè)置,所述隔板裝設(shè)于所述頂板上進而使所述消泡容器形成所述第一腔室及所述第二腔室,所述輸入口貫通開設(shè)于所述第一側(cè)板上,所述輸出口貫通開設(shè)于所述第二側(cè)板上。
5.如權(quán)利要求4所述的溶液回收裝置,其特征在于,所述溶液回收裝置還包括防溢管,所述防溢管穿設(shè)于所述儲液容器的底部,所述防溢管的入口位于所述儲液容器內(nèi),所述防溢管用于防止溶液溢出所述儲液容器。
6.一種加工設(shè)備,其特征在于,包括噴淋裝置、收集裝置及如權(quán)利要求1-5任意一項所述的溶液回收裝置,所述噴淋裝置用于噴射溶液,所述收集裝置用于收集所述噴淋裝置噴射的溶液,所述收集裝置與所述至少一個消泡結(jié)構(gòu)的輸入口連通。
7.如權(quán)利要求6所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述加工設(shè)備還包括過濾器,所述過濾器與所述儲液容器及所述噴淋裝置連通,所述過濾器用于將來自所述儲液容器的溶液進行過濾后再輸送至所述噴淋裝置進行循環(huán)利用。
8.如權(quán)利要求6所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述加工設(shè)備還包括設(shè)于所述儲液容器內(nèi)的液位偵測器,用于偵測所述儲液容器內(nèi)的液位。
9.如權(quán)利要求6所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述加工設(shè)備還包括處理器,所述處理器與所述噴淋裝置及所述液位偵測器電性連接,當(dāng)所述處理器確定所述液位偵測器偵測到的液位值低于第一預(yù)設(shè)值時,則控制所述噴淋裝置停止噴淋。
10.如權(quán)利要求9所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述加工設(shè)備還包括補液裝置,當(dāng)所述處理器確定所述液位偵測器偵測到的液位值低于第一預(yù)設(shè)值時,則控制所述補液裝置進行補液;當(dāng)所述處理器確定所述液位偵測器偵測到的液位值達到第二預(yù)設(shè)值時,所述處理器控制關(guān)閉所述補液裝置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810122603.7/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





