[發明專利]一種常壓等離子處理方法

在審

• 申請號: 201810116923.1
• 申請日: 2018-02-06
• 公開（公告）號: CN108461375A
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發明（設計）人: 謝文娟
• 申請（專利權）人: 安徽科耀環?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種常壓等離子處理方法，其特征在于：將一密封容器內設置為常壓，在密封容器內設置一對相對電極，所述相對電極之間設置有固體電介質，所述的一對相對電極之間施加電場，得到等離子體，所述密閉容器連接有抽氣容器，所述抽氣容器通過閥門與密閉容器連通，所述抽氣容器內的壓強小于常壓，打開閥門所述等離子體通過閥門排出氣體，利用氣壓差使得等離子進入到抽氣容器中。

2.根據權利要求1所述的一種常壓等離子處理方法，其特征在于：所述密閉容器設置有進入閥門，所述進氣閥門打開時，空氣進入密閉容器，關閉進氣閥門使得密閉容器為內常壓。

3.根據權利要求1所述的一種常壓等離子處理方法，其特征在于：所述密閉容器設置有開口，所述固體電介質通過開口置入電極之間。

4.根據權利要求1所述的一種常壓等離子處理方法，其特征在于：所述抽氣容器的內部設置有被處理物。

5.根據權利要求4所述的一種常壓等離子處理方法，其特征在于：等離子體與被處理物體接觸的處理部附近四周具有排氣口，在其周圍配有氣幕機構，借以使等離子體與被處理物體接觸的處理部附近保持在特定的氣體氣氛下。