[發明專利]一種電化學拋光冷卻循環裝置及其應用

在審

• 申請號: 201810114075.0
• 申請日: 2018-02-05
• 公開（公告）號: CN108286067A
• 公開（公告）日: 2018-07-17
• 發明（設計）人: 夏金成;陸玲;鄧輝;周國山;陳慧娟;蔡淵
• 申請（專利權）人: 蘇州新材料研究所有限公司
• 主分類號: C25F7/00
• 分類號: C25F7/00;C25F3/22
• 代理公司: 上海旭誠知識產權代理有限公司 31220
• 代理人: 鄭立

本發明公開了一種電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，包括循環機、回流管路，所述回流管路一端與循環機相連，另一端可置于拋光液中，所述循環機通過回流管路控制拋光液溫度。并進一步公開了該電化學拋光冷卻循環裝置在制備高溫超導帶材基帶的電化學拋光工藝的應用。該工藝能維持電化學拋光過程中拋光液溫度的穩定性，進而維持電壓和各項參數的穩定性，提高電化學拋光生產工藝的穩定性。

技術領域

本發明涉及電化學拋光領域，尤其涉及一種電化學拋光冷卻循環裝置及其在高溫超導帶材生產工藝中的應用。

背景技術

電化學拋光也稱電解拋光，在電化學拋光工藝中，將被拋光金屬工件作為陽極，不溶性金屬板作為陰極，兩極同時浸入到電解槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，從而達到工件表面光亮度增大的效果。電化學拋光可以非常有效的去除表面的氧化層和應力層。與傳統的機械拋光相比，電化學拋光具有生產效率高、成本低廉和均勻性好等優點。

電化學拋光光是一種電化學的溶解過程，沒有機械力的作用，因而不引起金屬的表面變形，避免機械拋光時試樣表面產生的變形層，從而真實地顯示金相組織。電解拋光對試樣磨光程度要求低，拋光速度快，效率高。電解拋光適用于有色金屬及其他硬度低的單相合金，如鋁合金、奧氏體不銹鋼、高錳鋼等。電化學拋光能降低零件的表面粗糙度值、控制材料宏觀不平度、增加表面光澤、減小摩擦因數，故在很多場合可替代機械拋光，可較大幅度地提高生產率，降低材料、工具、設備、電力等的消耗。電解拋光在軸承、反光罩、切削工具、計量工具、自行車零件、紡織機械零件及醫療器械等的加工中有廣泛的應用。

哈氏合金基帶電化學拋光基本原理：被拋光哈氏合金基帶置于陽極，惰性電極作為陰極，在一定溫度、電流電壓條件下，強酸性電解質溶液中發生氧化還原反應的過程(一定濃度的強酸性電解質溶液即拋光液)。影響哈氏合金基帶拋光生產工藝穩定性的主要因素：拋光電流，拋光速度，拋光液流速，拋光電壓，拋光溫度，拋光液特性等。起初，一定的拋光速度、拋光溫度進行哈氏合金基帶動態電化學拋光時，拋光電流值固定，拋光電壓不變；隨著拋光長時間持續的進行，拋光溶液溫度不斷上升，拋光電壓下降，拋光液特性也會發生細微變化，從而拋光后的哈氏合金基帶表面粗糙度、均一性、平整性等特性，均會隨之發生細微變化。為此，高效控制拋光電壓，拋光溫度，拋光液特性等工藝參數對合金基帶拋光工藝穩定性至關重要。

如何對于如何高效控制拋光電壓，拋光溫度，拋光液特性等工藝參數，從而解決合金基帶拋光生產工藝穩定性問題的方法，目前在本領域還是空白。

發明內容

有鑒于現有技術的上述缺陷，本發明所要解決的技術問題是如何維持在高溫超導帶材基帶在電化學拋光過程中拋光液溫度的穩定。本發明提出一種高效解決電化學拋光生產工藝穩定性問題的方法，解決了高溫超導帶材生產工藝穩定性的問題。該方法能夠較為穩定的控制拋光液的溫度，進而穩定拋光電壓等拋光生產工藝中的各項參數，提高拋光效果。

為實現上述目的，本發明提供了一種電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，包括循環機、回流管路，所述回流管路一端與循環機相連，另一端可置于拋光液中，所述循環機通過回流管路控制拋光液溫度。

在本發明一個較佳的實施例中，所述可置于拋光液部分的回流管路可耐受拋光液腐蝕。

在本發明一個較佳的實施例中，所述回流管路為耐酸堿包膠不銹鋼回流管路。

在本發明一個較佳的實施例中，所述回流管路為數目大于2個，平行排列，并在與循環機接觸前匯合。

在本發明一個較佳的實施例中，所述回流管路置于拋光液部分為螺旋型。

在本發明一個較佳的實施例中，所述拋光冷卻循環裝置可調控拋光液溫度在1℃范圍內波動。

本發明還提供了一種電化學拋光冷卻循環裝置在制備高溫超導帶材基帶的電化學拋光工藝的應用，其特征在于，所述高溫超導帶材的基帶在進行電化學拋光時，使用拋光冷卻循環裝置保持拋光液溫度恒定。