[發明專利]一種電化學拋光冷卻循環裝置及其應用在審
| 申請號： | 201810114075.0 | 申請日： | 2018-02-05 |
| 公開（公告）號： | CN108286067A | 公開（公告）日： | 2018-07-17 |
| 發明（設計）人： | 夏金成;陸玲;鄧輝;周國山;陳慧娟;蔡淵 | 申請（專利權）人： | 蘇州新材料研究所有限公司 |
| 主分類號： | C25F7/00 | 分類號： | C25F7/00;C25F3/22 |
| 代理公司： | 上海旭誠知識產權代理有限公司 31220 | 代理人： | 鄭立 |
| 地址： | 215123 江蘇省蘇州市蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電化學拋光 冷卻循環裝置 回流管路 拋光液 循環機 電化學拋光工藝 高溫超導帶材 維持電壓 基帶 生產工藝 制備 應用 | ||
1.一種電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，包括循環機、回流管路，所述回流管路一端與循環機相連，另一端可置于拋光液中，所述循環機通過回流管路控制拋光液溫度。
2.一種如權利要求1所述的電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，所述可置于拋光液部分的回流管路可耐受拋光液腐蝕。
3.如權利要求2所述的電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，所述回流管路為耐酸堿包膠不銹鋼回流管路。
4.如權利要求3所述的電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，所述回流管路為數目大于2個，平行排列，并在與循環機接觸前匯合。
5.如權利要求2所述的電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，所述回流管路置于拋光液部分為螺旋型。
6.如權利要求1所述的電化學拋光冷卻循環裝置，其特征在于，所述拋光冷卻循環裝置可調控拋光液溫度在1℃范圍內波動。
7.一種如權利要求1所述的電化學拋光冷卻循環裝置在制備高溫超導帶材基帶的電化學拋光工藝的應用，其特征在于，所述高溫超導帶材的基帶在進行電化學拋光時，使用拋光冷卻循環裝置保持拋光液溫度恒定。
8.如權利要求7所述的電化學拋光冷卻循環裝置在制備高溫超導帶材基帶的電化學拋光工藝中的應用，其特征在于，所述拋光工藝的拋光溫度范圍為5-15℃，時間范圍為0-96h。
9.如權利要求7所述的電化學拋光冷卻循環裝置在制備高溫超導帶材基帶的電化學拋光工藝中的應用，所述高溫超導帶材基帶的電化學拋光速度是恒定的。
10.如權利要求9所述的所述的電化學拋光冷卻循環裝置在制備高溫超導帶材基帶的電化學拋光工藝中的應用，其特征在于，所述高溫超導帶材基帶為哈氏合金基帶或不銹鋼基帶和鎳-鎢合金基帶。
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