[發(fā)明專利]光刻裝置及物品的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810107544.6
• 申請(qǐng)日: 2018-02-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108398857B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-11-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 中島和敬;神谷重雄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京怡豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;李艷麗

1.一種在基板上形成圖案的光刻裝置，其特征在于，所述光刻裝置包括：

卡盤(pán)，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及與所述第一保持面相反一側(cè)的背面；

載臺(tái)，其包括用于保持所述卡盤(pán)的第二保持面，并能夠移動(dòng)；

板，其包括第一清潔面、以及與所述第一清潔面相反一側(cè)的第二清潔面；

保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式來(lái)保持所述板或所述卡盤(pán)，并能夠移動(dòng)；以及

處理部，其通過(guò)所述保持部所保持的所述板的所述第二清潔面對(duì)所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者進(jìn)行清潔，并通過(guò)所述板的所述第一清潔面對(duì)所述保持部所保持的所述卡盤(pán)的所述背面進(jìn)行清潔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，所述處理部

在使所述保持部所保持的所述板的所述第二清潔面與所述第二保持面相接觸的狀態(tài)下，通過(guò)使所述第二清潔面與所述第二保持面相對(duì)滑動(dòng)來(lái)對(duì)所述第二保持面進(jìn)行清潔，

在使所述保持部所保持的所述卡盤(pán)的所述背面與所述載臺(tái)所保持的所述板的所述第一清潔面相接觸的狀態(tài)下，通過(guò)使所述背面與所述第一清潔面相對(duì)滑動(dòng)來(lái)對(duì)所述背面進(jìn)行清潔，并且

在使所述保持部所保持的所述板的所述第二清潔面與所述載臺(tái)所保持的所述卡盤(pán)的所述第一保持面相接觸的狀態(tài)下，通過(guò)使所述第二清潔面與所述第一保持面相對(duì)滑動(dòng)來(lái)對(duì)所述第一保持面進(jìn)行清潔。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，

所述板包括至少兩個(gè)保持部分，所述保持部分包括由用于限制所述板在所述垂直方向的移動(dòng)的第一壁面和用于限制所述板在所述水平方向的移動(dòng)的第二壁面構(gòu)成的開(kāi)口，

所述保持部包括在所述水平方向延伸的插入部分，通過(guò)將所述插入部分插入所述開(kāi)口來(lái)保持所述板。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，所述第一清潔面和所述第二清潔面均具有比所述第二保持面的面積大的面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻裝置，其特征在于，

所述光刻裝置還包括設(shè)置于所述載臺(tái)上的基準(zhǔn)標(biāo)記，

在對(duì)所述第二保持面及所述背面進(jìn)行清潔時(shí)，所述第一清潔面和所述第二清潔面不與所述基準(zhǔn)標(biāo)記交疊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，

所述第一清潔面具有比所述卡盤(pán)的耐磨損性低的耐磨損性，

所述第二清潔面具有比所述載臺(tái)的耐磨損性以及所述卡盤(pán)的耐磨損性低的耐磨損性。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，所述第一清潔面和所述第二清潔面包括多個(gè)凸部。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻裝置，其特征在于，

所述載臺(tái)包括吸附銷，

所述第二清潔面的多個(gè)凸部包括圍繞所述吸附銷的周圍的環(huán)狀凸部。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，

所述第一清潔面和所述第二清潔面包括粘結(jié)材料。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，所述光刻裝置還包括：

投影光學(xué)系統(tǒng)，其用于將光柵的圖案投影在所述基板上。

11.一種物品的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

使用光刻裝置在基板上形成圖案的步驟；

對(duì)通過(guò)所述步驟形成有所述圖案的所述基板進(jìn)行處理的步驟；以及

由處理后的所述基板制造物品的步驟，

其中，所述光刻裝置包括：

卡盤(pán)，其包括用于保持所述基板的第一保持面、以及與所述第一保持面相反一側(cè)的背面；

載臺(tái)，其包括用于保持所述卡盤(pán)的第二保持面，并能夠移動(dòng)；

板，其包括第一清潔面、以及與所述第一清潔面相反一側(cè)的第二清潔面；

保持部，其以垂直方向的保持力小于水平方向的保持力的方式來(lái)保持所述板或所述卡盤(pán)，并能夠移動(dòng)；以及

處理部，其通過(guò)所述保持部所保持的所述板的所述第二清潔面對(duì)所述第一保持面和所述第二保持面中的至少一者進(jìn)行清潔，并通過(guò)所述板的所述第一清潔面對(duì)所述保持部所保持的所述卡盤(pán)的所述背面進(jìn)行清潔。