[發明專利]對準器結構及對準方法

有效

• 申請號: 201810085860.8
• 申請日: 2015-02-27
• 公開（公告）號: CN108130521B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 曹生賢
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C16/04
• 分類號: C23C16/04;C23C16/40;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/44;H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 錢慰民

1.一種基板對準器結構，作為在基板(S)表面執行薄膜沉積工序之前對準掩模(M)及基板(S)的基板對準器結構，其特征在于，包括：

第1次對準部(100)，其借助于基板(S)及掩模(M)的第1相對移動，依次地第1次對準基板(S)及掩模(M)，其中所述第1次對準部(100)結合于對所述掩模(M)進行支撐的掩模支撐部(310)或者結合于對所述基板(S)進行支撐的基板支撐部(320)；

第2次對準部(200)，其在借助于所述第1次對準部(100)的第1次對準后，借助于基板(S)及掩模(M)的第2相對移動，依次地第2次對準基板(S)及掩模(M)；

所述第2相對移動的移動尺度小于所述第1相對移動的移動尺度，以及

其中所述第1次對準部(100)和所述第2次對準部(200)中的每一個同時執行使所述基板(S)及所述掩模(M)貼緊的貼緊步驟以及對準所述基板(S)及所述掩模(M)的對準步驟。

2.根據權利要求1所述的基板對準器結構，其特征在于，

所述第1次對準部(100)及所述第2次對準部(200)結合于對掩模(M)進行支撐的所述掩模支撐部(310)，使所述掩模支撐部(310)移動，相對于基板(S)，執行支撐于掩模支撐部(310)的掩模(M)的第1相對移動及第2相對移動。

3.根據權利要求1所述的基板對準器結構，其特征在于，

所述第1次對準部(100)及所述第2次對準部(200)結合于對基板(S)進行支撐的所述基板支撐部(320)，使所述基板支撐部(320)移動，相對于掩模(M)，執行支撐于基板支撐部(320)的基板(S)的第1相對移動及第2相對移動。

4.根據權利要求1所述的基板對準器結構，其特征在于，

所述第2次對準部(200)結合于對掩模(M)進行支撐的所述掩模支撐部(310)，使所述掩模支撐部(310)移動，相對于基板(S)，執行支撐于掩模支撐部(310)的掩模(M)的第2相對移動，所述第1次對準部(100)結合于對基板(S)進行支撐的所述基板支撐部(320)，使所述基板支撐部(320)移動，相對于掩模(M)，執行支撐于基板支撐部(320)的基板(S)的第1相對移動。

5.根據權利要求1所述的基板對準器結構，其特征在于，

所述第1次對準部(100)結合于對掩模(M)進行支撐的所述掩模支撐部(310)，使所述掩模支撐部(310)移動，相對于基板(S)，執行支撐于掩模支撐部(310)的掩模(M)的第1相對移動，所述第2次對準部(200)結合于對基板(S)進行支撐的所述基板支撐部(320)，使所述基板支撐部(320)移動，相對于掩模(M)，執行支撐于基板支撐部(320)的基板(S)的第2相對移動。

6.根據權利要求1至5中任意一項所述的基板對準器結構，其特征在于，

所述第1相對移動的移動范圍為5μm～10μm，所述第2相對移動的移動范圍為10nm～5μm。

7.根據權利要求1至5中任意一項所述的基板對準器結構，其特征在于，

所述第1次對準部(100)借助于滾珠螺桿組合、齒條及齒輪組合、皮帶及滑輪組合中的某一種而線性驅動，所述第2次對準部(200)借助于壓電元件而線性驅動。

8.一種對準方法，作為在基板(S)表面執行薄膜沉積工序之前對準掩模(M)及基板(S)的對準方法，其特征在于，

同時執行使基板(S)及掩模(M)貼緊的貼緊步驟以及對準基板(S)及掩模(M)的對準步驟。