[發明專利]一種硅片鼓泡清洗裝置

在審

• 申請號: 201810082611.3
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN108346600A
• 公開（公告）日: 2018-07-31
• 發明（設計）人: 甘大元;唐珊珊;劉坤;張鵬飛;張健
• 申請（專利權）人: 山東大海新能源發展有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 濟南舜源專利事務所有限公司 37205
• 代理人: 苗峻

1.一種硅片鼓泡清洗裝置，其特征在于：包括清洗箱(01)、鼓泡裝置(02)、加熱裝置(03)、蒸汽管路(04)、冷凝器(05)、回流管路(06)，所述清洗箱(01)為圓柱狀，所述清洗箱(01)包括上清洗箱(07)、下清洗箱(08)兩部分，所述上清洗箱(07)、下清洗箱(08)通過螺紋可進行彼此連接，所述下清洗箱(08)底部設置有鼓泡裝置(02)，所述下清洗箱(08)箱壁上設置有加熱裝置(03)，所述上清洗箱(07)的頂部設置有蒸汽管路(04)，所述蒸汽管路(04)與所述的冷凝器(05)相連接，所述冷凝器(05)底部設置有回流管路(06)，所述回流管路(06)與所述的上清洗箱(07)連接；所述鼓泡裝置(02)包括固定板(09)、氣管(10)、壓縮空氣泵(11)，所述氣管(10)呈S形排列在所述的固定板(09)上，所述氣管(10)上均勻排列有氣孔(12)，所述固定板(09)連接在所述清洗箱(01)底部，所述氣管(10)的兩端均與所述的壓縮空氣泵(11)相連接，所述空氣壓縮泵設置在清洗箱(01)的外部，所述空氣壓縮泵的入口接入所述下清洗箱(08)內部，保證清洗箱(01)為密閉空間，所述下清洗箱(08)的頂部設置有硅片放置架(13)，所述硅片放置架(13)由不銹鋼材料制作而成，所述硅片放置架(13)為扁平鏤空結構，所述下清洗箱(08)中添加的清洗液的水位高于所述加熱裝置(03)的設置高度，所述下清洗箱(08)中添加的清洗液的水位高度與所述硅片放置架(13)的高度相同或者略高于硅片放置架(13)的設置高度。

2.根據權利要求1所述的一種硅片鼓泡清洗裝置，其特征在于：所述的清洗液優選為酒精。

3.根據權利要求1所述的一種硅片鼓泡清洗裝置，其特征在于：所述清洗箱(01)的底部設置有支架(14)，所述支架(14)底部設置有地腳固定架(15)。

4.根據權利要求1所述的一種硅片鼓泡清洗裝置，其特征在于：所述下清洗箱(08)內設置有溫度傳感器(16)，所述溫度傳感器(16)的數值顯示屏設置在所述清洗箱(08)的外部。

5.根據權利要求1所述的一種硅片鼓泡清洗裝置，其特征在于：所述清洗箱(01)底部設置的支架(14)上安裝有操作面板，所述操作面板與所述的加熱裝置(03)、空氣壓縮機相連接。