[發(fā)明專(zhuān)利]掩膜板及彩色濾光片的制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810079698.9 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108170000A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莫超德 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F1/76 | 分類(lèi)號(hào): | G03F1/76;G03F7/20;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂;程曉 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩膜板 彩色濾光片 圖案區(qū)域 制作 四周邊界 中心處 均一 線寬 遞減 圖案 半透光區(qū)域 大尺寸顯示 向下彎曲 照射能量 透光率 拉伸 | ||
本發(fā)明提供一種掩膜板及彩色濾光片的制作方法。本發(fā)明的掩膜板用于制作彩色濾光片,具有圖案區(qū)域,所述圖案區(qū)域?yàn)榘胪腹鈪^(qū)域,且所述圖案區(qū)域的透光率由掩膜板的四周邊界處向中心處遞減,從而使通過(guò)掩膜板的照射能量由四周邊界處向中心處遞減,使用該掩膜板制作彩色濾光片,能夠有效改善現(xiàn)有技術(shù)中因掩膜板自重向下彎曲而造成其圖形拉伸不均一進(jìn)而導(dǎo)致彩色濾光片上圖形尺寸大小不均一的問(wèn)題,得到線寬均勻的圖案。本發(fā)明的彩色濾光片的制作方法采用上述的掩膜板,能夠得到線寬均勻的圖案,有效改善大尺寸顯示產(chǎn)品中彩色濾光片上圖形尺寸大小不均一的問(wèn)題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種掩膜板及彩色濾光片的制作方法。
背景技術(shù)
薄膜晶體管液晶顯示裝置(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)具有機(jī)身薄、省電、無(wú)輻射等眾多優(yōu)點(diǎn),得到了廣泛的應(yīng)用。現(xiàn)有市場(chǎng)上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示裝置,其包括液晶顯示面板及背光模組(backlightmodule)。通常液晶顯示面板由彩膜(CF,Color Filter)基板、TFT陣列基板、夾于彩膜基板與TFT陣列基板之間的液晶(LC,Liquid Crystal)及密封框膠(Sealant)組成;其成型工藝一般包括:前段陣列(Array)制程與CF制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT陣列基板與CF基板貼合)及后段模組組裝(Module)制程(驅(qū)動(dòng)IC與印刷電路板壓合);其中,前段Array制程主要是形成TFT基板,以便于控制液晶分子的運(yùn)動(dòng);前段CF制程主要是形成CF基板;中段Cell制程主要是在TFT基板與CF基板之間添加液晶;后段模組組裝制程主要是驅(qū)動(dòng)IC壓合與印刷電路板的整合,進(jìn)而驅(qū)動(dòng)液晶分子轉(zhuǎn)動(dòng),顯示圖像。
CF基板是LCD用來(lái)實(shí)現(xiàn)彩色顯示的主要器件,其基本構(gòu)成通常包括:玻璃基板、黑色矩陣(Black Matrix,BM)、彩色色阻層等等。背光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)液晶分子的調(diào)制入射到CF基板,通過(guò)CF基板上彩色色阻層的紅色色阻、綠色色阻、以及藍(lán)色色阻的濾光作用,分別顯示紅,綠,藍(lán)三種光線,不同顏色的色阻分別透射對(duì)應(yīng)顏色波段的光,從而實(shí)現(xiàn)顯示器的彩色顯示。在CF制程當(dāng)中,包括光阻涂布、曝光、顯影等制程,其中,光阻涂布無(wú)疑是最為重要的一個(gè)環(huán)節(jié),光阻涂布的均勻性以及光阻的厚度對(duì)于顯示效果都有很重要的影響。
如圖1所示,在大尺寸TFT-LCD彩膜基板的制作過(guò)程中,由于掩膜板10自重導(dǎo)致其中心區(qū)域13向下彎曲,造成其中心區(qū)域13和邊緣區(qū)域11圖形拉伸的大小不一樣,通過(guò)邊緣區(qū)域11、中部區(qū)域12、中心區(qū)域13曝光在彩膜基板1上得到的圖形尺寸分別為CD1、CD2、CD3,這樣在曝光量(投影式曝光)等工藝參數(shù)都相同的條件下,由于掩膜板10自重向下彎曲造成曝光得到的圖形尺寸大小不均一,即CD1<CD2<CD3,從而影響彩色濾光片的質(zhì)量。
在實(shí)際生產(chǎn)工藝中,上述差異表現(xiàn)為通過(guò)邊緣區(qū)域11得到的圖形尺寸CD1較小,容易造成漏光,而通過(guò)核心區(qū)域13得到的圖形尺寸CD3較大,容易造成混色,大大增加了彩色濾光片工藝調(diào)試的難度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種掩膜板,使用該掩膜板制作彩色濾光片,能夠得到線寬均勻的圖案,有效改善大尺寸顯示產(chǎn)品中彩色濾光片上圖形尺寸大小不均一的問(wèn)題。
本發(fā)明的目的還在于提供一種彩色濾光片的制作方法,采用上述的掩膜板,能夠得到線寬均勻的圖案,有效改善大尺寸顯示產(chǎn)品中彩色濾光片上圖形尺寸大小不均一的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種掩膜板,用于制作彩色濾光片,具有圖案區(qū)域,包括玻璃基板、以及設(shè)于所述玻璃基板上的金屬膜和多個(gè)半透膜;
所述金屬膜在玻璃基板上形成遮光區(qū)域,并在對(duì)應(yīng)所述圖案區(qū)域上設(shè)有數(shù)個(gè)開(kāi)口;
所述多個(gè)半透膜對(duì)應(yīng)設(shè)于所述圖案區(qū)域上,所述圖案區(qū)域?yàn)榘胪腹鈪^(qū)域;
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專(zhuān)門(mén)適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





