[發(fā)明專利]掩膜板及彩色濾光片的制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810079698.9 | 申請日： | 2018-01-26 |
| 公開（公告）號： | CN108170000A | 公開（公告）日： | 2018-06-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 莫超德 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/76 | 分類號： | G03F1/76;G03F7/20;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市德力知識產權代理事務所 44265 | 代理人： | 林才桂;程曉 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掩膜板 彩色濾光片 圖案區(qū)域 制作 四周邊界 中心處 均一 線寬 遞減 圖案 半透光區(qū)域 大尺寸顯示 向下彎曲 照射能量 透光率 拉伸 | ||
1.一種掩膜板，其特征在于，用于制作彩色濾光片，具有圖案區(qū)域，包括玻璃基板(101)、以及設于所述玻璃基板(101)上的金屬膜(102)和多個半透膜(103)；
所述金屬膜(102)在玻璃基板(101)上形成遮光區(qū)域，并在對應所述圖案區(qū)域上設有數個開口(104)；
所述多個半透膜(103)對應設于所述圖案區(qū)域上，所述圖案區(qū)域為半透光區(qū)域；
所述圖案區(qū)域上的多個半透膜(103)的透光率由掩膜板的四周邊界處向中心處遞減。
2.如權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述圖案區(qū)域上的多個半透膜(103)的透光率為50％-100％。
3.如權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述金屬膜(102)的材料為鉻。
4.如權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述玻璃基板(101)為石英玻璃基板。
5.如權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，其厚度為5-20mm。
6.一種彩色濾光片的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟S1、提供一襯底基板(200)，在所述襯底基板(200)上涂布光阻材料形成光阻層(300)；
步驟S2、提供如權利要求1-5中任一項所述的掩膜板(100)，利用所述掩膜板(100)對所述光阻層(300)進行曝光；
步驟S3、對曝光后的所述光阻層(300)進行顯影，得到所述彩色濾光片上所需的色阻圖案(350)。
7.如權利要求6所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述襯底基板(200)為彩膜基板、或薄膜晶體管基板。
8.如權利要求6所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述步驟S2中，通過曝光機對所述光阻層(300)進行曝光，所述曝光機為投影式曝光機。
9.如權利要求6所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述步驟S1中，所涂布的光阻材料為正性光刻膠材料；所涂布的光阻材料為紅色、綠色、或藍色光刻膠材料。
10.如權利要求6所述的彩色濾光片的制作方法，其特征在于，所述步驟S3還包括，在對所述光阻層(300)進行顯影后，對所述光阻層(300)進行烘烤。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
