[發(fā)明專利]一種利用巰基-烯點(diǎn)擊反應(yīng)制備無機(jī)晶須/POSS雜化材料的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810077209.6 | 申請日: | 2018-01-26 |
| 公開(公告)號: | CN108276605B | 公開(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張健;高傳慧;任秀;劉園園;劉月濤;張青瑞;丁煜;武玉民 | 申請(專利權(quán))人: | 青島科技大學(xué) |
| 主分類號: | C08K9/04 | 分類號: | C08K9/04;C08K7/08;C09D7/62 |
| 代理公司: | 濟(jì)南圣達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37221 | 代理人: | 鄭平 |
| 地址: | 266042 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 巰基 點(diǎn)擊 反應(yīng) 制備 無機(jī) poss 材料 方法 | ||
本發(fā)明提供一種利用巰基?烯點(diǎn)擊反應(yīng)制備無機(jī)晶須/POSS雜化材料的方法。在紫外光照的條件下,利用乙烯基POSS中的雙鍵(?C=C),在無機(jī)晶須表面巰基(?SH)的參與下,經(jīng)由巰基?烯點(diǎn)擊反應(yīng),將傳統(tǒng)微米級無機(jī)晶須與納米級的POSS結(jié)合在一起,成功合成了一類新型的無機(jī)晶須/POSS多尺度雜化材料。通過調(diào)節(jié)POSS表面的八個有機(jī)官能團(tuán)將更大程度的調(diào)控晶須的表面性能,改善晶須的表面極性,與現(xiàn)有傳統(tǒng)的晶須表面改性方法相比,本發(fā)明能更好的解決晶須的團(tuán)聚及在有機(jī)基體中的分散問題。步驟簡單、操作方便、實(shí)用性強(qiáng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于有機(jī)-無機(jī)雜化材料制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種利用巰基-烯點(diǎn)擊反應(yīng)制備無機(jī)晶須/POSS雜化材料的方法。
背景技術(shù)
無機(jī)晶須是一種具有一定長徑比的纖維狀晶體,以單晶形式生長而成,具有優(yōu)良的力學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性,在工程塑料、涂料及隔熱、絕緣材料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用,被稱為二十一世紀(jì)的補(bǔ)強(qiáng)材料。然而,無機(jī)晶須粒徑較小,表面能較高,導(dǎo)致其在使用過程中容易出現(xiàn)團(tuán)聚及搭橋現(xiàn)象。再加上無機(jī)晶須表面較強(qiáng)的親水性能,使得晶須與聚合物基體的相容性較差,限制了晶須的推廣應(yīng)用。
為了提高無機(jī)晶須在高分子聚合物基體中的分散性和界面間的結(jié)合力,一般采用不同的表面活性劑或偶聯(lián)劑對晶須進(jìn)行表面改性。雖然表面改性后晶須與水的接觸角均有不同程度的提高,但仍存在以下兩個問題尚未解決:一是小尺寸、大比表面積的特點(diǎn)決定了晶須本身仍然容易發(fā)生團(tuán)聚和搭橋現(xiàn)象,簡單表面改性不能從根本上解決無機(jī)材料在有機(jī)基體中的均勻分散性問題;二是常規(guī)加工方法得到的晶須增強(qiáng)復(fù)合材料,在受到應(yīng)力時,晶須容易從基體中拔出,并且其優(yōu)異的物理、力學(xué)性能都集中在晶須的軸向,而在復(fù)合材料的橫向無晶須加強(qiáng)作用,無機(jī)晶須與有機(jī)基體之間的界面相互作用未得到有效改善。
近年來,在有機(jī)無機(jī)雜化材料研究中,多面體低聚倍半硅氧烷(POSS)作為增強(qiáng)材料的報(bào)道很多,例如:CN201310235935.3,采用交聯(lián)劑對纖維素納米晶須表面進(jìn)行處理,形成環(huán)氧化纖維素納米晶須,再將環(huán)氧化纖維素納米晶須與耐熱性優(yōu)良的多面體低聚倍半硅氧烷(POSS)反應(yīng),制備得纖維素納米晶須有機(jī)無機(jī)耐熱雜化材料。但是這種雜化材料的制備方法較為復(fù)雜且需要的反應(yīng)時間較長。文獻(xiàn)《基于巰基-烯點(diǎn)擊化學(xué)法POSS雜化整體柱的制備研究》提出,POSS具有獨(dú)特的納米結(jié)構(gòu)和化學(xué)性質(zhì),在硅膠雜化整體材料的制備中可理想的替代烷氧基硅烷,利用巰基-烯點(diǎn)擊化學(xué)法成功制備了POSS雜化整體柱。但是目前利用巰基-烯點(diǎn)擊方法將POSS引入到無機(jī)晶須表面的方法未見報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述不足,本發(fā)明提供一種利用巰基-烯點(diǎn)擊反應(yīng)制備無機(jī)晶須/POSS雜化材料的方法。基于巰基-烯點(diǎn)擊反應(yīng)的原理,將晶須表面巰基化,選擇性的將帶有不同乙烯基活性基團(tuán)的POSS分子引入晶須表面,合成一類新型的無機(jī)晶須/POSS多尺度雜化材料。所制備的無機(jī)晶須/POSS雜化材料疏水性能提高、團(tuán)聚現(xiàn)象明顯減弱。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種利用巰基-烯點(diǎn)擊反應(yīng)制備無機(jī)晶須/POSS雜化材料的方法,包括:
將無機(jī)晶須進(jìn)行表面巰基化;
將含乙烯基的POSS和表面巰基化的無機(jī)晶須在引發(fā)劑存在的條件下,在紫外光照下,發(fā)生巰基-烯點(diǎn)擊反應(yīng),制得表面接枝乙烯基POSS的無機(jī)晶須。
現(xiàn)有研究表明:可通過POSS與無機(jī)晶須復(fù)配用以提高復(fù)合材料的耐熱性,雖然POSS的加入可單方面提高復(fù)合材料的熱穩(wěn)定性,但由于簡單的復(fù)配并沒有改變無機(jī)晶須的表面極性,因此該方法并未從根本上克服無機(jī)晶須易團(tuán)聚以及與聚合物基體相容性差的缺陷,從而大大限制了該雜化方法的應(yīng)用、推廣。為了克服上述問題,本申請?zhí)岢鐾ㄟ^巰基-烯點(diǎn)擊反應(yīng)在無機(jī)晶須上引入POSS,提高雜化材料性能的同時,豐富雜化材料的原料來源,以制備出更多功能各異的雜化材料。結(jié)果表明:將表面巰基化的無機(jī)晶須與含乙烯基的POSS在紫外光照下接枝后,制備的無機(jī)晶須/POSS雜化材料的團(tuán)聚現(xiàn)象減弱,接觸角明顯增加。
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