[發明專利]一種利用巰基-烯點擊反應制備無機晶須/POSS雜化材料的方法有效
| 申請號： | 201810077209.6 | 申請日： | 2018-01-26 |
| 公開（公告）號： | CN108276605B | 公開（公告）日： | 2020-02-18 |
| 發明（設計）人： | 張健;高傳慧;任秀;劉園園;劉月濤;張青瑞;丁煜;武玉民 | 申請（專利權）人： | 青島科技大學 |
| 主分類號： | C08K9/04 | 分類號： | C08K9/04;C08K7/08;C09D7/62 |
| 代理公司： | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人： | 鄭平 |
| 地址： | 266042 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 巰基 點擊 反應 制備 無機 poss 材料 方法 | ||
1.一種利用巰基-烯點擊反應制備無機晶須/POSS雜化材料的方法，其特征在于，包括：
將無機晶須進行表面巰基化；
將含乙烯基的POSS和表面巰基化的無機晶須在引發劑存在的條件下，在紫外光照下，發生巰基-烯點擊反應，制得表面接枝乙烯基POSS的無機晶須。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述無機晶須為表面富集羥基的堿式硫酸鎂晶須、硫酸鈣晶須或鈦酸鉀晶須。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述無機晶須進行表面巰基化的具體步驟為：將含巰基的偶聯劑在一定比例的醇水溶液中稀釋，調節pH值到一定酸性；然后將偶聯劑溶液滴加到晶須與水混合液中，于一定溫度下反應，抽濾、洗滌、烘干，即得。
4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述含巰基的硅烷偶聯劑為γ-巰丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巰丙基三甲氧基硅烷或γ-巰丙基三乙氧基硅烷中的一種。
5.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述含巰基的硅烷偶聯劑與無機晶須的質量比為0.05～3:1。
6.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述反應溫度條件為40～120℃下反應時間1～10h。
7.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述巰基-烯點擊反應的時間為2～30min。
8.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述含乙烯基的POSS與巰基化的無機晶須的質量比為0.1～1:1。
9.權利要求1-8任一項所述的方法制備的無機晶須/POSS雜化材料。
10.權利要求9所述的無機晶須/POSS雜化材料在制備工程塑料、涂料及隔熱、絕緣材料中的應用。
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